本公開(kāi)提供了一種基于高斯過(guò)程的葉型優(yōu)化方法、裝置及電子設(shè)備,基于預(yù)設(shè)的葉片設(shè)計(jì)參數(shù)和相對(duì)應(yīng)的預(yù)設(shè)氣動(dòng)參數(shù)構(gòu)建對(duì)應(yīng)氣動(dòng)參數(shù)的目標(biāo)高斯過(guò)程模型;在設(shè)計(jì)范圍內(nèi)選定初始葉片設(shè)計(jì)參數(shù),基于所述目標(biāo)高斯過(guò)程模型,預(yù)測(cè)初始?xì)鈩?dòng)參數(shù),得到初始葉片設(shè)計(jì)參...