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        日產(chǎn)化學(xué)株式會社專利技術(shù)

        日產(chǎn)化學(xué)株式會社共有1016項(xiàng)專利

        • 本發(fā)明的課題是提供固化物顯示高折射率和低阿貝數(shù),進(jìn)一步適合于制作具有高透明性的成型體的聚合性組合物所使用的新的聚合性硅烷化合物。解決手段是式[1]所示的聚合性硅烷化合物、作為該聚合性硅烷化合物的縮聚物的聚硅氧烷。(式中,X表示具有至少1...
        • 本發(fā)明的課題是提供具有1個烴基的異氰脲酸衍生物的新的制造方法。解決手段是一種具有1個烴基的異氰脲酸衍生物的制造方法,其包含下述工序:由下述式(0)所示的化合物獲得下述式(1)所示的化合物的第一工序;由上述式(1)所示的化合物獲得下述式(...
        • 本發(fā)明的課題是提供,即使在使用了300℃至700℃這樣的高溫下的蝕刻法的情況下,所形成的圖案也不因?yàn)榛亓鳌⒎纸舛缐牡木哂斜粓D案化了的III族氮化物系化合物層的半導(dǎo)體基板的制造方法。作為解決手段是一種制造方法,其特征在于,是具有被圖案化...
        • 本發(fā)明的課題是提供新的抗蝕劑圖案被覆用水溶液。解決手段是一種抗蝕劑圖案被覆用水溶液,其包含:A成分:主鏈具有亞乙基氧單元和碳原子數(shù)3的亞烷基氧單元、并且末端具有羥基的共聚物,B成分:水溶性聚合物(其中,上述A成分的共聚物除外)、水溶性單...
        • 本發(fā)明的課題是提供對堿性過氧化氫水溶液的保護(hù)膜形成用組合物。作為解決手段是一種對堿性過氧化氫水溶液的保護(hù)膜形成用組合物,其包含:1分子中具有2個以上選自縮水甘油基、末端環(huán)氧基、環(huán)氧環(huán)戊基、環(huán)氧環(huán)己基、氧雜環(huán)丁烷基、乙烯基醚基、異氰酸酯基...
        • 本發(fā)明的課題是提供常溫下的保存穩(wěn)定性優(yōu)異的抗蝕劑下層膜形成用組合物。解決手段是一種光刻用抗蝕劑下層膜形成用組合物,其包含:含氮化合物、聚合物、促進(jìn)交聯(lián)反應(yīng)的化合物和有機(jī)溶劑,1分子所述含氮化合物中具有2~6個與氮原子鍵合的下述式(1)所...
        • 本發(fā)明的課題是提供用于形成膜密度、硬度、楊氏模量、扭曲耐性(圖案的彎曲耐性)高,由此具有高的蝕刻耐性的抗蝕劑下層膜的抗蝕劑下層膜形成用組合物。解決手段是一種抗蝕劑下層膜形成用組合物,其包含具有下述式(1)所示的重復(fù)單元結(jié)構(gòu)的酚醛清漆樹脂...
        • 例如通過使用含有由下述式[4]表示的重復(fù)單元結(jié)構(gòu)的含有三嗪環(huán)的聚合物,能夠得到高折射率并且能形成微細(xì)圖案的薄膜。
        • 本發(fā)明的課題是提供固化物顯示低阿貝數(shù),進(jìn)而能夠很好制作具有高透明性的成型體的聚合性組合物。本發(fā)明提供了一種聚合性組合物,含有(a)反應(yīng)性含菲環(huán)倍半硅氧烷化合物100質(zhì)量份、和(b)具有至少一個聚合性雙鍵的聚合性化合物10~500質(zhì)量份,...
        • 本發(fā)明提供高折射率固化膜形成用樹脂組合物,其包含:(a)由式[1]表示的芴化合物,以及(b)含有芳香環(huán)的聚合物,其含有來自(甲基)丙烯酸和/或脂肪族(甲基)丙烯酸酯化合物的重復(fù)單元(不過,不包括在側(cè)鏈具有硅烷結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元)和來自含有聚...
        • 提供殺菌劑或殺細(xì)菌劑用的新型的組合物。一種殺菌劑或殺細(xì)菌劑用的組合物,其含有式(I)所表示的肟取代酰胺化合物、其N?氧化物或其鹽的活性成分A、和殺菌或殺細(xì)菌化合物的活性成分B。[化1]
        • 例如包含苯胺衍生物、噻吩衍生物等電荷傳輸性物質(zhì)、例如由下述式表示的鎓硼酸鹽和有機(jī)溶劑的電荷傳輸性清漆再現(xiàn)性良好地給予電荷傳輸性、平坦性和均勻性優(yōu)異的電荷傳輸性薄膜。
        • 本發(fā)明提供用于將使用了含硅組合物的半導(dǎo)體基板平坦地被覆的方法。本發(fā)明提供一種聚硅氧烷被覆基板的制造方法,所述聚硅氧烷被覆基板是經(jīng)過下述工序制造的:第一工序,將包含第一被覆用聚硅氧烷的第一被覆用聚硅氧烷組合物涂布于高低差基板上并進(jìn)行燒成,...
        • 本發(fā)明的課題在于提供不發(fā)生與抗蝕劑層的混合、具有高干式蝕刻耐性、具有高耐熱性、高溫下的質(zhì)量減少少、顯示平坦的高低差基板被覆性的光刻用抗蝕劑下層膜及用于形成該抗蝕劑下層膜的抗蝕劑下層膜形成用組合物。解決手段為一種抗蝕劑下層膜形成用組合物,...
        • 提供:可以得到電壓保持率優(yōu)異、累積電荷的緩和快、驅(qū)動中不易引起閃爍的液晶取向膜的液晶取向劑、液晶取向膜和液晶表示元件。一種液晶取向劑,其含有:由具有式(1)所示的結(jié)構(gòu)的二胺得到的聚合物;和,有機(jī)溶劑。(R1表示氫、氟原子、氰基、羥基或一...
        • 本發(fā)明提供能高效地控制靶基因、并且能容易地制造的單鏈寡核苷酸。其為由式X?L?Y表示、X和Y以第一核苷酸序列部分和第二核苷酸序列部分進(jìn)行雜交的單鏈寡核苷酸。X由7~100個核苷酸形成,包含至少1個修飾核苷酸,具有能與第二寡核苷酸雜交、且...
        • 本發(fā)明提供液晶組合物,其包含:(A)含有由下述式[1a]、[1b]和[1c]表示的重復(fù)單元的聚合物、(B)由下述式[7a]、[7b]或[7c]表示的不顯示液晶性的化合物、和(C)有機(jī)溶劑。
        • 提供所形成的圖像形成用下層膜具有高的拒液性(疏液性)、且即使以少的紫外線曝光量也能夠容易地使親拒液性變化的固化膜形成組合物及使用該組合物而得到的固化膜。固化膜形成用樹脂組合物的特征在于,含有:作為(A)成分的包含來自第1單體的結(jié)構(gòu)單元的...
        • 本發(fā)明提供用于制造電子器件用基板的聚羥基酰胺組合物,其包含:(A)含有由式(1)表示的單元和由式(2)表示的單元的聚羥基酰胺、和(B)有機(jī)溶劑。[式中,X
        • 本發(fā)明提供聚合物的制造方法,是使用具備可將多個液體混合的流路的流動反應(yīng)器、在引發(fā)劑的存在下使單體進(jìn)行陰離子聚合的聚合物的制造方法,其中,上述流動反應(yīng)器具備雙液混合用混合器,該雙液混合用混合器具備在內(nèi)部具有雙重管的接頭構(gòu)件或靜態(tài)混合器構(gòu)件。
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