本發明提供了一種低毒性熒光碳點的制備方法，該方法將清洗好的碳電極置于電解質溶液中于較正電位處用恒電位電解氧化法對進行碳電極進行氧化，然后將氧化后的碳電極用超純水淋洗，收集淋洗后的水溶液，合并電解質溶液和淋洗后的水溶液，離心，收集上清，去...

本實用新型提供了一種電化學制氧裝置，該裝置主要包括電解槽、與電解槽相連的電源，以及與電解槽的出氣管、液管連通的氣－液通路和位于氣－液通路下端的貯液槽，氧氣出口設于氣－液通路的上端，其特殊之處是設有兩個或兩個以上串聯的電解槽，電解槽的空氣...

本實用新型公開了一種多用途電解槽裝置，它是由陽極引流散熱板、三功能陽極室、陽極反應物進口、陽極反應產物出口；陰引流散熱板、三功能陰極室、陰極反應物進口、陰極反應產物出口；膜復合電極組件組成。本實用新型實現了三維立體散熱，結構緊湊，體積小...

一種臭氧水制備裝置，包括電解式臭氧發生器、與臭氧發生器陰極相通的陰極原料水箱、與臭氧發生器陽極相通的陽極原料水箱、分別與陽極原料水箱和自來水管相連通的水射流器、與水射流器相通的氣／水混合器、與氣／水混合器相通的水／氣分離器，其特征是：設...

一種臭氧水制備機，包括電解式臭氧發生器、與臭氧發生器陰極相通的陰極原料水箱、與臭氧發生器陽極相通的陽極原料水箱、分別與陽極原料水箱和自來水管相連通的水射流器、與水射流器相通的氣／水混合器、與氣／水混合器相通的水／氣分離器，其特征是：在電...

本實用新型公開了一種臭氧發生器以及由此臭氧發生器組成的一種臭氧水生成機。在臭氧發生器的陽極室一側依次設置有細孔和粗孔集流層，該集流層兼作氣（臭氧）／水混合器；臭氧水生成機由自來水控制開頭、去離子水生成器、貯水槽、輸送泵及臭氧發生器組成。...

本實用新型是由膜復合電極、陰陽極多孔集流板、陰陽極水槽、陰陽極氣體出口、陰陽極水槽水連通器組成。其膜復合電極為三層結構，它位于發生器中間，其中間為固體聚合物電解質膜，膜兩側分別為陰陽極多孔催化層，陰陽極水槽，水槽內盛有不含電解質的純水。...

本發明提供了一種電解式臭氧發生裝置，主要包括：臭氧發生器、陽極水箱、陰極水箱，單向平衡閥或通斷型電磁閥等部件。其中臭氧發生器包括陽離子交換膜片、陰極催化劑膜片、陰極多孔集流片、陽極催化劑膜片、陽極多孔集流片、及導流板、防腐片等獨立元件。...

本發明公開了一種用于電解制備硼氫化物的裝置－－三電解槽系統，電解制備硼氫化物的電解槽分成三個相互隔離的室：陽極室、陰極Ａ室和陰極Ｂ室，陽極室與陰極Ａ室采用陽離子交換膜隔開，而陰極Ａ室與陰極Ｂ室采用多孔陰極隔開。這種裝置有利于增大反應物與...

本發明公開了一種電解法制備硼氫化物的催化劑以及制備含有該催化劑的催化電極的方法，該催化劑為儲氫合金、碳材料、金屬硼化物中的一種，或其中兩種或多種的混合物。將催化劑粉末（６０～１００份）、添加劑（０～２０份）、粘結劑（１～１０份）混勻，加...

本發明公開了用植物堿鹽與少量表面活性劑配制成一種鹽酸酸洗鋼材的緩蝕抑霧劑配方，其優點是無毒、價廉、緩蝕效率在９５％以上，使８０％以上的鹽酸酸霧得到壓抑。

本發明公開了導電態聚苯胺在陽極保護中的應用。導電態聚苯胺在酸性溶液中具有較正的開路電位（可達到０．４Ｖ左右）和較高的電荷容量使其具有促進金屬的鈍化的能力，從而降低可鈍化金屬在酸性溶液中的腐蝕速率。而且聚苯胺制備工藝簡單，原料價格低廉，因...

本發明涉及一種用于低硬度低堿度水體系的碳素鋼復合緩蝕劑，按重量百分比計，由１６％～２９％多羥基羧酸鹽、６％～２８％鎢酸鹽、２％～１０％聚羧酸、３％～５％羧酸共聚物、１．５％～２．５％鋅鹽、３９％～５５％水組成。用于低硬度低堿度水系統的碳...

本發明提出了一種新型油溶性緩蝕劑。它是一種咪唑啉酰胺化合物，是一種油溶性緩蝕劑，屬于金屬防腐蝕技術領域。本發明具有優良的抗Ｈ↓［２］Ｓ－ＨＣｌ－Ｈ↓［２］Ｏ體系的腐蝕性能，用于煉油廠常減壓蒸餾裝置的防腐蝕工藝過程，與氨水和有機中和劑有良...

本發明公開了一種成膜緩蝕劑，由下法制得：先將十八烷基胺加熱成液態，然后攪拌下將液態十八烷基胺倒入４９～７１℃水中，即得成膜緩蝕劑；十八烷基胺與除鹽水的用量重量比為１－３０∶９９－７０。按本發明將十八烷基胺在除鹽水中直接分散、稀釋，不用添...

本發明公開了一種聚苯胺陰極屏循環使用的方法：在１０℃～５０℃的溫度下，將喪失伽伐尼陽極保護作用的聚苯胺陰極屏放入Ｈ離子濃度為１ｍｏｌ／Ｌ－１０ｍｏｌ／Ｌ的質子酸溶液中浸泡至聚苯胺陰極屏的電位穩定，聚苯胺陰極屏的電位穩定后的電位電勢范圍為...

本發明涉及一種用于超低硬度水體系的碳素鋼復合緩蝕劑，按重量百分比計，由４０％～５５％羥基膦羧酸、１％～３％鉬酸鹽、１０％～２０％聚磷酸鹽、１％～３％羧酸磺酸共聚物、１０％～２３％鋅鹽、１０％～２５％水組成。本發明碳素鋼復合緩蝕劑制備簡單...

本發明公開的一種成膜緩蝕劑至少包括３０％～５０％的十八胺，２０％～３０％的咪唑啉酰胺，其它為還原劑碳酰肼，以上比例為質量百分比。成膜緩蝕劑在溫度為１５０～５００℃、成膜緩蝕劑的濃度為１０～３５ｐｐｍ、ｐＨ為７～１１、時間為１ｈ～１０ｍｉ...

本發明公開了一種快速硬質陶瓷涂層離子鍍裝置，該裝置包括由爐壁圍成的真空室，真空室設有抽真空口，爐壁一側設有爐門，真空室內設有圓形電弧靶和大功率柱形旋轉電弧靶，圓形電弧靶分成２Ｎ列，Ｎ≥１，均勻分布在爐壁上，柱形大功率旋轉電弧靶位于真空室...

本發明公開了一種Ｔｉ－Ｓｉ－Ｎ納米晶－非晶復合超硬涂層的制備方法。該方法利用磁場控制的高密度電弧放電使Ｔｉ電弧靶蒸發Ｔｉ，通入氮氣和蒸發出的Ｔｉ反應生成ＴｉＮ，同時通入硅烷，把硅烷（ＳｉＨ↓［４］）離化分解成Ｓｉ離子和Ｈ離子，Ｓｉ離子和...