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        日產化學株式會社專利技術

        日產化學株式會社共有1016項專利

        • 本發明的課題是提供新的壓印用光固化性組合物。解決手段是一種壓印用光固化性組合物,是包含下述(a)成分、下述(b)成分、下述(c)成分、和下述(d)成分的壓印用光固化性組合物,相對于該組合物所包含的具有烯屬不飽和基的化合物總量100質量份...
        • 本發明提供零面錨定膜的工業制造方法、以及使用其的良好的液晶顯示元件和液晶顯示元件的制造方法。一種圖案化的零面錨定膜的制造方法,其包括:對自由基產生膜在特定區域內照射放射線而形成圖案化的自由基產生膜的步驟;以及使含有液晶和自由基聚合性化合...
        • 提供顯示高蝕刻耐性、良好的干蝕刻速度比和光學常數,對所謂的高低差基板也被覆性良好,埋入后的膜厚差小,能夠形成平坦的膜的抗蝕劑下層膜形成用組合物。此外,提供適合于該抗蝕劑下層膜形成用組合物的聚合物的制造方法、使用了該抗蝕劑下層膜形成用組合...
        • 提供用水稀釋時的乳化穩定性大幅改善了的農藥乳化性組合物。農藥乳化性組合物,其包含:(a)選自氟噁唑酰胺(Fluxametamide)、噠螨靈、吲唑磺菌胺和精喹禾靈中的至少1種的農藥活性物質;(b)包含(b?1)包含3?甲氧基?N,N?二...
        • 本發明提供將聚硅氧烷中含有的鹽類雜質通過活性炭除去,降低了鹽類等的濃度的聚硅氧烷制造方法。本發明適合用于與半導體有關的領域。本發明提供了一種除去了鹽類的聚硅氧烷的制造方法,包含以下工序(1)和工序(2),工序(1):在有機溶劑中使聚硅氧...
        • 提供顯示高蝕刻耐性、良好的干蝕刻速度比和光學常數,對所謂高低差基板也被覆性良好,埋入后的膜厚差小,能夠形成平坦的膜的抗蝕劑下層膜形成用組合物。此外,提供適合于該抗蝕劑下層膜形成用組合物的聚合物的制造方法、使用了該抗蝕劑下層膜形成用組合物...
        • 本發明的課題是提供新型的農藥、尤其是除草劑。本發明的解決手段是提供式(1)所示的酮或肟化合物及含有它們的除草劑。[式中,B表示B?1、B?2或B?3,Q表示氧原子、=NOR
        • 一種相位調制元件,其為將液晶層用于介電常數可變構件的相位調制元件,其具有液晶層和與前述液晶層接觸來配置的取向控制層,所述液晶層包含具有異硫氰酸酯基的液晶化合物,所述取向控制層具有下述式(N?1)或(N?2)所示的特定官能團。式(N?1)...
        • 氣體分離膜的制造方法,所述氣體分離膜是微粒均勻地分散于樹脂中的氣體分離膜,所述氣體分離膜的制造方法包括下述(A)和(B):工序(A),以上述微粒的量相對于總質量而言為1~50質量%的方式,將上述微粒與基體樹脂混合而制造母料;工序(B),...
        • 本發明的課題是提供在支持體與晶片之間不產生空隙的臨時粘接劑。解決手段是用于在支持體與晶片的電路面之間可剝離地粘接而將晶片的背面進行加工的臨時粘接劑,上述臨時粘接劑包含能夠通過氫化硅烷化反應而固化的成分(A)、Tg?DTA中的5%質量減少...
        • 提供與抗蝕劑膜的密合性高,能夠形成薄膜且形成良好的抗蝕劑圖案的作為新的抗蝕劑圖案用表面改性劑的半導體基板用底涂劑、在基板上依次疊層了表面改性劑和抗蝕劑圖案的疊層基板、圖案形成方法以及半導體裝置的制造方法。一種抗蝕劑圖案用表面改性劑,是在...
        • 本發明提供密封密合性優異、具有期望的電壓保持率(VHR)并且具有可靠性的液晶取向膜、形成該液晶取向膜的液晶取向劑、和具備該液晶取向膜的賓主型液晶調光元件。一種賓主型液晶調光元件,其特征在于,其具備:具有透明電極的一對基板和被所述一對基板...
        • 本發明的課題是提供形成具備優異的液晶取向性和密合性的固化膜的固化膜形成用組合物、該固化膜、使用該固化膜而形成的光學膜、取向材以及相位差材。解決手段是下述固化膜形成用組合物、由該固化膜形成用組合物形成的固化膜、使用該固化膜而形成的光學膜、...
        • 提供在4.35~5V的范圍充電以供使用的鋰離子二次電池,其是包括非水電解液以及可吸儲和放出鋰的正極和負極的鋰離子二次電池,所述非水電解液包含(A)電解質、(B)非水系有機溶劑、和(C)具有至少一個芳環且不具有氨基的化合物的與該芳環的碳原...
        • 本發明的課題是提供對于形成具備優異的液晶取向性和密合性的固化膜而言有用的固化膜形成用組合物、使用由該固化膜形成用組合物獲得的固化膜而制成的取向材以及相位差材。解決手段是下述固化膜形成用組合物、以及由該固化膜形成用組合物獲得的固化膜、使用...
        • 提供可以維持非對稱的傾斜角體現能力、并且可以抑制液晶單元的內部偏置電壓經時性變化的現象的液晶表示元件。一種液晶表示元件的制造方法,其特征在于,包括如下工序:在第一基板上形成第一液晶取向膜的液晶取向膜形成工序,所述第一液晶取向膜具有式(1...
        • 提供一種能夠形成與基板、密封劑的密合性高且電壓保持率等電特性優異的液晶取向膜的液晶取向劑。一種液晶取向劑,其特征在于,其含有聚合物(A)和下述式(1)所示的二胺化合物(B),所述聚合物(A)為選自由使二胺成分與四羧酸成分反應而得到的聚酰...
        • 提供非水電解液用添加劑和使用了其的鋰離子二次電池,所述非水電解液用添加劑包含化合物,所述化合物為具有至少一個芳環并且不具有氨基的化合物,并且該化合物的與芳環的碳原子結合的氫原子中的至少1個被下述式(1)所示的基團取代。
        • 提供一種能夠獲得蓄積電荷的緩和快、即使被背光照射其電荷的蓄積量也不易變化的液晶取向膜的液晶取向劑、液晶取向膜和液晶表示元件。一種液晶取向劑,其特征在于,其含有由具有下述式(1)所示結構的二胺得到的聚合物和有機溶劑。(R
        • 提供儲能器件電極用底涂箔,其包括:集電體、在該集電體的至少一面形成的、包含導電性碳材料和分散劑的底涂層,所述集電體不含底涂層中所含的元素,采用X射線光電子能譜(XPS)測定所述底涂箔的底涂層形成面得到的構成所述集電體的元素的比率為2原子...
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