一種掩模，包括二維圖案，該二維圖案包括具有關(guān)于預(yù)設(shè)旋轉(zhuǎn)參考點在旋轉(zhuǎn)方向上對稱的對稱分量的光學(xué)幅度調(diào)制區(qū)域或相位調(diào)制區(qū)域，其中掩模基于二維圖案將入射光引導(dǎo)至圖像傳感器。另外，旋轉(zhuǎn)參考點被設(shè)置在設(shè)置有二維圖案的圖案形成區(qū)域內(nèi)。

[問題]為了提供一種能夠考慮像素陣列的曝光狀態(tài)來執(zhí)行適當(dāng)?shù)墓鈾z測的光檢測裝置和光檢測系統(tǒng)。[解決方案]一種根據(jù)本公開的光檢測裝置，包括：像素陣列，包括用于檢測事件的多個像素；讀取電路，從像素讀取指示事件檢測結(jié)果的事件信號；行曝光檢測電路...

本發(fā)明提供了能夠使裝置配置小型化并抑制發(fā)生由來自散熱構(gòu)件的反射光引起的光斑等缺陷的半導(dǎo)體裝置。一種半導(dǎo)體裝置，包括：基板；第一半導(dǎo)體元件，設(shè)置在基板上；透光構(gòu)件，相對于第一半導(dǎo)體元件設(shè)置在與基板側(cè)相反的一側(cè)上；第二半導(dǎo)體元件，設(shè)置在基板...

根據(jù)本公開的一個方面的半導(dǎo)體裝置包括層壓板，其中，硅光子層和支撐基板互相貼合。硅光子層包括：波導(dǎo)，用于傳輸光信號；以及金屬膜，隔著波導(dǎo)與支撐基板相對設(shè)置。該金屬膜包括可用作波導(dǎo)加熱器的加熱器層。

[問題]為了在不使控制復(fù)雜化的前提下實現(xiàn)動態(tài)范圍的擴大和高分辨率。[方案]一種光檢測裝置，其包括按照相同的時序執(zhí)行曝光的多個像素。所述多個像素中的各像素分別包括：蓄積與入射光的光量對應(yīng)的電荷的光電轉(zhuǎn)換元件；保持所述光電轉(zhuǎn)換元件中所蓄積的...

該成像裝置包括：固態(tài)成像元件，包括用于吸收紅外光的紅外吸收濾光器；以及基體，多個像素在該基體上布置成二維陣列，該像素包括將透過紅外吸收濾光器的入射光轉(zhuǎn)換成電信號的光電轉(zhuǎn)換區(qū)域。紅外吸收濾光器和基體在入射光的入射方向上凹陷并且作為整體彎曲。

一種傳感器模塊，包括被配置為提供雙感測層(400)的電路，該雙感測層(400)提供自配準(zhǔn)RGB成像能力和SPAD感測能力，其中，該自配準(zhǔn)通過感測層的堆疊實現(xiàn)方式來實現(xiàn)。

根據(jù)本發(fā)明一個實施方案的光檢測裝置包括：第一基板，其具有彼此相對的第一面和第二面，且具有像素陣列部，在所述像素陣列部中在面內(nèi)方向上以陣列狀布置有多個像素；第二基板，其層疊到所述第一基板的所述第一面?zhèn)龋揖哂性O(shè)置有至少一個晶體管的半導(dǎo)體層...

本公開涉及一種固態(tài)成像器件、固態(tài)成像器件的制造方法和電子設(shè)備。固態(tài)成像器件包括：設(shè)有其中多個像素以平面方式配置的像素區(qū)域的半導(dǎo)體基板；層疊在半導(dǎo)體基板上并設(shè)有與像素連接的多個配線的配線層；接合到配線層并支撐半導(dǎo)體基板的支撐基板，用于電連...

[問題]?本發(fā)明提供了一種低電流消耗的成像裝置。[解決方案]?根據(jù)本發(fā)明實施方案的成像裝置包括：像素部，其包括對入射光進行光電轉(zhuǎn)換以生成像素信號的多個像素；第一信號線，其傳輸來自所述像素部的像素信號；第二信號線，其傳輸用于使電流流過第一...

提供一種顯示裝置，能夠抑制保護層在遮光層的端部處的附著覆蓋性惡化。顯示裝置具備包圍顯示區(qū)域的遮光層、包圍遮光層的第一周邊層以及覆蓋遮光層和第一周邊層的保護層。遮光層包括第一著色層以及設(shè)置于第一著色層上的第二著色層，第一周邊層的上表面的高...

本公開總體上涉及一種事件檢測電路，其配置成：獲取光子檢測信號，該光子檢測信號指示有光子入射在光電檢測單元上；將光子檢測信號與光子檢測時間段相關(guān)聯(lián)；以及如果在預(yù)定積分時間段內(nèi)，檢測到光子檢測信號與一光子檢測時間段的關(guān)聯(lián)數(shù)量和先前事件的關(guān)聯(lián)...

根據(jù)本公開的一個實施方式的半導(dǎo)體裝置包括：半導(dǎo)體層；以及電容元件，具有設(shè)置到半導(dǎo)體層的第一表面?zhèn)鹊牡谝浑姌O、層疊在第一電極上的絕緣膜和層疊在絕緣膜上的第一電阻元件。

提供一種具有電連接多個裸片的配線層的基板裝置，利用該基板裝置，可以在抑制電特性劣化的同時實現(xiàn)生產(chǎn)率的提高。根據(jù)本技術(shù)的基板裝置設(shè)置有配線基板和配線層，該配線層設(shè)置為從配線基板的表面突出并且電連接多個裸片。根據(jù)本技術(shù)的基板裝置，可以提供具...

本公開涉及可以進一步提高圖像質(zhì)量的固態(tài)成像元件、制造方法和電子設(shè)備。所述固態(tài)成像元件包括：濾色器，其隔著絕緣層針對每個像素設(shè)置在半導(dǎo)體基板的被光照射的背面?zhèn)龋徊▽?dǎo)，其配置在相鄰的所述濾色器之間，并且由折射率比所述濾色器低的低折射率材料形...

本發(fā)明的目的是減小用于存儲圖像數(shù)據(jù)等的存儲設(shè)備的尺寸的增大。根據(jù)本公開的存儲設(shè)備具有第一存儲器和第二存儲器。根據(jù)本公開的存儲設(shè)備的第一存儲器設(shè)置有SRAM并且保存圖像數(shù)據(jù)的高位比特的數(shù)據(jù)。根據(jù)本公開的存儲設(shè)備的第二存儲器設(shè)置有存儲單元面...

在形成有多個布線的半導(dǎo)體元件中，降低布線間電容。該半導(dǎo)體元件包括半導(dǎo)體基板、絕緣膜、保護膜、預(yù)定數(shù)量的布線以及覆蓋空隙。在該半導(dǎo)體元件中，絕緣膜覆蓋半導(dǎo)體基板的預(yù)定表面。在該半導(dǎo)體元件中，保護膜覆蓋絕緣膜。在該半導(dǎo)體元件中，預(yù)定數(shù)量的布...

該成像裝置包括：固態(tài)成像元件；光調(diào)制元件；以及第一遮光構(gòu)件。該固態(tài)成像元件具有以矩陣布置多個像素的有效區(qū)域。光調(diào)制元件定位于有效區(qū)域的光入射側(cè)上并且調(diào)制入射光。第一遮光構(gòu)件定位為與光調(diào)制元件齊平，以便在俯視觀察時包圍光調(diào)制元件的外周。

本公開內(nèi)容提供了光檢測裝置和距離測量系統(tǒng)，利用該光檢測裝置和距離測量系統(tǒng)可以抑制光檢測準(zhǔn)確度的降低。根據(jù)本公開的實施方式的光檢測裝置(30)設(shè)置有：光電轉(zhuǎn)換元件(331a)，光電轉(zhuǎn)換入射光；比較器(331c)，將光電轉(zhuǎn)換元件的輸出電壓與...

根據(jù)本公開的一個實施方式的發(fā)光裝置設(shè)置有臺面型發(fā)光元件、第一導(dǎo)電層、第二導(dǎo)電層、第一接觸插塞以及第二接觸插塞。第一導(dǎo)電層與臺面型發(fā)光元件的第一化合物半導(dǎo)體層接觸。第二導(dǎo)電層與臺面型發(fā)光元件的第二化合物半導(dǎo)體層接觸。第一接觸插塞在平面圖中...