本發明涉及一種層疊體，其具有：對活性能量射線具有透射性的支承體、所述支承體上的剝離層、以及所述剝離層上的樹脂層，所述剝離層由含有膜形成成分和溶劑的剝離層形成用組合物形成，所述樹脂層由樹脂層前體形成，所述剝離層具有能夠吸收所述活性能量射線...

本發明的課題是，本發明提供通過提高聚合物的熱回流性從而改善燒成時對圖案的填充性的抗蝕劑下層膜組合物、作為由該抗蝕劑下層膜組合物制成的涂布膜的燒成物的抗蝕劑下層膜、和包含形成該抗蝕劑下層膜的工序的半導體裝置的制造方法。解決手段是本發明的抗...

本發明的課題是提供以羧酸酯作為分散介質的二氧化硅溶膠及其制造方法。解決手段是一種二氧化硅溶膠，其含有在進行了硅烷被覆的二氧化硅粒子的表面或附近存在Si?OR1(其中，R1表示可以具有氧原子的碳原子數2～10的有機基。)所示的烷氧基的該二...

本發明的課題是提供具有嘧啶堿基的2’?氨基甲酰基烷基修飾核苷的新的制造方法。解決手段是以使脫水尿苷化合物、與具有保護或無保護羥基的酰胺化合物在硼試劑的存在下、在醚溶劑等溶劑中反應作為特征的2’?氨基甲酰基烷基修飾尿苷化合物的制造方法、以...

本發明提供形成具有高的透光率和高的電壓保持率的液晶取向膜的液晶取向劑等。一種液晶取向劑，含有下述的(A)成分和(B)成分。(A)成分：選自由聚酰亞胺前體和聚酰亞胺構成的組中的至少一種聚合物(P)，所述聚酰亞胺前體通過包含下述式(1)所示...

本發明的課題是提供包含具有光活性的金屬氧化物粒子、并且即使通過光催化作用也抑制了醛化合物等的產生的組合物及其制造方法。解決手段是一種組合物，是包含具有光活性的金屬氧化物粒子(A)、分散劑(B)、和除揮發性醛化合物以外的有機溶劑(C)的組...

【課題】提供抑制酰胺交換反應且對AC殘影的耐性優異的含有2種以上聚酰胺酸的液晶取向劑、由該液晶取向劑得到的液晶取向膜和液晶表示元件。【解決手段】提供抑制酰胺交換反應且對AC殘影的耐性優異的含有2種以上聚酰亞胺前體的液晶取向劑、液晶取向膜...

本發明提供一種高分子分散型液晶元件，其具備高透射狀態下的透光率高、高分子液晶層與基材的密合性高的液晶取向膜。一種高分子分散型液晶元件，具備：對置配置的一對基材；電極，分別配置于所述一對基材的相互對置的面；調光層，配置于所述一對基材間，包...

本申請提供一種弱錨定液晶取向劑，其用于具有液晶和液晶取向膜的液晶單元的所述液晶取向膜的形成，所述弱錨定液晶取向劑含有接枝共聚物，所述接枝共聚物具有主干聚合物和作為所述主干聚合物的側鏈而鍵合于所述主干聚合物的分枝聚合物，所述分枝聚合物與所...

本發明的目的是提供與以往相比使交聯性飛躍地提高了的抗蝕劑下層膜形成用組合物，進一步提供為了改善抗蝕劑下層膜與抗蝕劑圖案的密合性而與抗蝕劑材料的成分交聯的抗蝕劑下層膜形成用組合物。解決手段是一種光刻用抗蝕劑下層膜形成用組合物，其包含：具有...

本發明提供一種液晶取向性良好、預傾角表現能力也優異的液晶取向膜、具有該液晶取向膜的液晶顯示元件、提供該液晶取向膜的液晶取向劑。本發明的液晶取向劑，含有作為(A)成分的化合物、作為(B)成分的聚酰胺酸以及溶劑，所述化合物具有下述式(pa?...

提供一種液晶取向劑、由該液晶取向劑得到的液晶取向膜以及使用了該液晶取向膜的液晶顯示元件，所述液晶取向劑能得到即使在長時間暴露于高溫高濕下后，電壓保持率也高的液晶取向膜。一種液晶取向劑，其含有下述的(A)成分和(B)成分。(A)成分：選自...

提供可以形成對高低差基板的埋入性和平坦化性優異，并且保存穩定性高，膜的固化開始溫度低，升華物的產生量少，在光致抗蝕劑溶劑中不溶出的膜的抗蝕劑下層膜形成用組合物、使用了該抗蝕劑下層膜形成用組合物的抗蝕劑圖案形成法、和半導體裝置的制造方法。...

提供一種半導體基板的清洗方法、包括這樣的清洗方法的經加工的半導體基板的制造方法以及用于這樣的清洗方法的組合物，所述半導體基板的清洗方法能以簡便的操作、更短時間且更干凈地將粘接層從在表面具有該粘接層的半導體基板上去除(清洗)。一種半導體基...

提供一種液晶取向劑、由該液晶取向劑得到的液晶取向膜以及使用了該液晶取向膜的液晶顯示元件，所述液晶取向劑含有適合于液晶取向劑的新型的溶劑成分。而且，提供一種液晶顯示元件，其提高液晶取向膜的端部的涂布性，即使在應用于顯示面大的液晶顯示元件的...

本發明提供在半導體裝置的制造中能夠以基于涂布的簡便方法完全覆蓋半導體制造用基板(晶片)的端部的保護膜、用于形成該保護膜的保護膜形成組合物、使用該保護膜制造的半導體制造用晶片、該半導體制造用晶片以及半導體裝置的制造方法。一種半導體制造用晶...

提供一種液晶取向劑等，所述液晶取向劑能得到對AC殘像的耐性優異并且具有低預傾角特性的液晶取向膜。一種液晶取向劑，其含有(A)成分和(B)成分。(A)成分：選自由作為如下四羧酸衍生物成分與如下二胺成分的反應物的聚酰亞胺前體和聚酰亞胺構成的...

為了使用Ru等不是Cu的新的金屬，通過減成法來制造半導體元件，提供形成可以作為用于將Ru等選自元素周期表第6族、7族、8族、和9族中的金屬的膜進行干蝕刻的蝕刻掩模而適合使用的抗蝕劑下層膜的抗蝕劑下層膜形成用組合物。一種含有硅的抗蝕劑下層...

一種液晶取向劑，其含有聚合物成分，所述聚合物成分滿足下述條件(i)和(ii)中的至少任意者。條件(i)：所述聚合物成分含有：選自由具有下述式(1)所示的重復單元(a1)和下述式(1’)所示的重復單元(a1’)的聚酰亞胺前體和作為該聚酰亞...

提供一種液晶取向劑等，所述液晶取向劑能得到對AC殘像的耐性優異、具有低預傾角特性并且具有高電壓保持率的液晶取向膜。一種液晶取向劑，其特征在于，含有下述的(A)成分和(B)成分。(A)成分：選自由如下聚酰亞胺前體和作為該聚酰亞胺前體的酰亞...