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        日產化學株式會社專利技術

        日產化學株式會社共有1016項專利

        • 一種弱錨定液晶取向劑,其含有下述A成分和B成分。A成分:下述式(1)所示的聚合物,B成分:具有通過加熱而與所述A成分具有的n價有機基團A反應的部位的聚合物(式(1)中,A表示具有通過加熱而與B成分反應的基團的分子量300以下的n價有機基...
        • 作為能夠減少氟系粘結劑的使用量、同時維持電池特性的電極形成用組合物,提供如下組合物,其包含含有酸性基團的化合物、含有氫鍵性基團的化合物、氟系粘結劑、導電性碳材料和活性物質,含有酸性基團的化合物為每一分子的酸性基團和/或其鹽的含量為15質...
        • 本發明提供一種用于形成保護膜的保護膜形成用組合物,所述保護膜保護表面形成有無機膜的半導體基板的上述無機膜免受濕蝕刻,該保護膜形成用組合物包含聚合物及溶劑,所述聚合物是主鏈上不具有芳香族環的聚合物且具有環氧乙烷環及氧雜環丁烷環中的至少一種。
        • 本發明提供一種液晶取向劑以及液晶取向膜,該液晶取向劑能得到具有高液晶取向性,抑制了黑顯示時的面內的亮度不均、對比度提高的液晶顯示元件。液晶取向劑含有:具有式(1)的重復單元(a1)和式(2)的重復單元(a2)的、聚酰亞胺前體和該聚酰亞胺...
        • 作為可進行EBR、能夠形成具有高折射率、透明性、耐熱性、耐光性、耐濕性、耐化學品性和與抗蝕劑同等的干蝕刻速率的樹脂膜的樹脂組合物,提供如下的樹脂組合物,其含有(A)聚合物和(B)有機溶劑,所述(A)成分為包含由下述式(1)表示的結構單元...
        • 本發明提供一種能夠形成保護膜的材料,所述保護膜在半導體裝置的制造中具有為了保護半導體制造用基板的端部所需要的充分的耐蝕刻性。[解決手段]一種光固化性組合物,其包含自交聯性聚合物及溶劑,所述自交聯性聚合物包含第一單體單元及第二單體單元,所...
        • 本發明提供一種液晶取向劑、液晶取向膜、液晶顯示元件以及其制造方法,所述液晶取向劑可以得到液晶的取向均勻性優異且對AC殘影的耐性優異的液晶取向膜。一種液晶取向劑,其含有:含有一種以上的聚合物的聚合物成分(P)以及下述式(c)所示的化合物(...
        • 本發明的目的是提供形成抗蝕劑下層膜的燒成物的硬度提高方法、能夠抑制蝕刻時的圖案彎曲的硬度提高的燒成物、將該燒成物作為抗蝕劑下層膜的抗蝕劑下層膜制造方法及半導體裝置的制造方法,所述抗蝕劑下層膜用于使用酚醛清漆樹脂制造半層體裝置的光刻工藝。...
        • 本發明的課題是提供可獲得具有優異的取向靈敏度,取向性也優異的取向材,并且留置穩定性提高了的熱固性光取向膜用樹脂組合物。解決手段是熱固性光取向膜用樹脂組合物含有(D)交聯催化劑,上述(D)交聯催化劑為具有磺酸基或熱分解而產生酸的結構并且重...
        • 提供在使用包含銀的材料作為液晶表示元件的電極和布線時能夠抑制銀的遷移、且能夠得到即便在高溫下長時間暴露后其電壓保持率也高的液晶取向膜的液晶取向劑,由該液晶取向劑得到的液晶取向膜和使用其的液晶表示元件。一種液晶取向劑,其含有下述(A)成分...
        • 由式(3)(式中,X和R表示與下述相同的含義。)表示的苯基膦酸酯的制造方法是反應轉化率良好、副產物的生成少的方法,該方法的特征在于,包括(A)工序,其中,使由式(1)(式中,X和Y表示彼此不同的鹵素原子。)表示的二鹵代芳族化合物與由式(...
        • 本發明提供一種用于液晶取向劑的化合物,其為下述的任一化合物。
        • 一種含有硅的抗蝕劑下層膜形成用組合物,其用于形成在含有金屬的抗蝕劑膜與基板之間形成的含有硅的抗蝕劑下層膜,所述含有硅的抗蝕劑下層膜形成用組合物含有:[A]成分:聚硅氧烷;以及[C]成分:溶劑,上述聚硅氧烷包含來源于下述式(A?1)所示的...
        • 一種保護膜形成用組合物,其用于形成保護在表面形成有無機膜的半導體基板的上述無機膜不受濕蝕刻影響的保護膜,所述保護膜形成用組合物包含具有下述式(A)所示的部分結構的聚合物、和溶劑。(在式(A)中,R<subgt;1</subg...
        • 提供顯示良好的平坦化性,通過燒成而獲得具有高的疏水性和氣體透過性的膜,能夠提高與疏水性的上層膜的密合性,而且通過變更樹脂的分子骨架從而可以調整為適應于工藝的光學常數、蝕刻速度的納米壓印用抗蝕劑下層膜形成用組合物。一種納米壓印用抗蝕劑下層...
        • 本發明提供可形成期望的抗蝕劑圖案的抗蝕劑下層膜形成用組合物、及使用該抗蝕劑下層膜形成用組合物制造抗蝕劑圖案的方法、半導體裝置的制造方法。該抗蝕劑下層膜形成用組合物包含有機溶劑和聚合物,所述聚合物在末端具有可被包含雜原子的基團中斷、可被取...
        • 一種用于液晶取向劑的化合物,其由下述式(1)表示(以下,也稱為特定化合物)。式中的符號的定義如說明書、權利要求書中所記載的那樣。
        • 一種含硅抗蝕劑下層膜形成用組合物,其含有[A]成分:含有碳?碳三鍵的聚硅氧烷、和[C]成分:溶劑。
        • 本發明提供一種即使縮短燒成時間,液晶取向性也良好,預傾角表現能力也優異,且能夠獲得高可靠性的液晶取向膜以及液晶取向劑。本發明提供一種液晶取向劑,其含有下述(A)成分和溶劑:(A)成分:具有下述(A?1)~(A?4)的結構的聚合物;(A?...
        • 一種粘接劑組合物,其含有:反應產物(X),為具有第一官能團的固體狀的聚合物(x1)與在鏈末端具有能與所述第一官能團反應的第二官能團的液態且鏈狀的化合物(x2)的反應產物(X),具有所述第一官能團或所述第二官能團;以及液態的交聯劑(Y),...
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