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        日產(chǎn)化學(xué)株式會社專利技術(shù)

        日產(chǎn)化學(xué)株式會社共有1016項(xiàng)專利

        • 本發(fā)明是在支持體與被加工物之間具有以能夠剝離的方式粘接的中間層、用于通過切斷等分離被加工物、或是用于進(jìn)行晶片的背面研磨等加工的層疊體,該中間層至少含有與支持體側(cè)接觸的剝離層,剝離層含有能夠吸收隔著支持體照射的190nm~600nm的光而...
        • 本發(fā)明的課題是提供鋁原子以Al2O3換算計(jì)以特定比例與中空二氧化硅粒子表面結(jié)合了的中空二氧化硅粒子、用于使中空二氧化硅粒子與有機(jī)溶劑和樹脂相容性良好地混合的中空二氧化硅溶膠。解決手段是一種中空二氧化硅粒子,是在外殼的內(nèi)部具有空間的中空二...
        • 本發(fā)明提供一種液晶取向劑、由該液晶取向劑得到的液晶取向膜以及具備該液晶取向膜的高性能的液晶顯示元件,所述液晶取向劑使能得到液晶取向膜面內(nèi)的液晶的扭轉(zhuǎn)角度的偏差(不均勻性)小的液晶取向膜的光照射量的范圍擴(kuò)大,并且用于得到不產(chǎn)生由清洗工序引...
        • 本發(fā)明提供能得到膜強(qiáng)度高且抑制AC殘像的液晶取向膜的液晶取向劑、由該液晶取向劑得到的液晶取向膜、以及使用了該液晶取向膜的液晶顯示元件。一種液晶取向劑,含有下述(A)成分和由下述式(1)表示的化合物(B)。(A)成分:聚合物成分,含有選自...
        • 提供一種液晶取向劑以及適合于它們的新型的二胺和聚合物,所述液晶取向劑能形成具有高電壓保持率的液晶取向膜,此外能形成能抑制因長期交流驅(qū)動(dòng)而產(chǎn)生的殘像,而且在短時(shí)間內(nèi)減少因液晶驅(qū)動(dòng)而產(chǎn)生的液晶盒內(nèi)的蓄積電荷的液晶取向膜。一種液晶取向劑,其含...
        • 提供一種聚合物組合物,其適合于能得到對AC殘像的耐性優(yōu)異并且具有低預(yù)傾角的液晶取向膜的液晶取向劑。一種聚合物組合物,其特征在于,含有下述的(A)成分和(B)成分。(A)成分:選自由具有下述式(a)所示的重復(fù)單元的聚酰亞胺前體和作為該聚酰...
        • 本發(fā)明提供光散射用高折射率的大粒子的氧化鈦粒子的沉降得到抑制的光散射層形成用組合物及其中含有熒光體后的波長轉(zhuǎn)換層形成用組合物。該光散射層形成用組合物包含具有110nm~500nm的平均一次粒徑的氧化鈦粒子(A)、具有1000~10000...
        • 提供一種液晶取向劑、由該液晶取向劑得到的液晶取向膜以及使用了該液晶取向膜的液晶顯示元件、以及能用于它們的化合物和聚合物,所述液晶取向劑能得到液晶取向膜面內(nèi)的液晶的扭曲角度的不均(不均勻性)小的液晶取向膜。一種液晶取向劑,其含有選自由如下...
        • 本發(fā)明提供一種液晶顯示元件及其制造方法,即使在將取向膜的一方設(shè)為光取向處理、將另一方設(shè)為摩擦取向處理的情況下,液晶取向膜面內(nèi)的液晶分子的扭轉(zhuǎn)角度的偏差(不均勻性)也小,且能抑制AC殘影。一種液晶顯示元件,其具備夾持液晶層而對置配置的第一...
        • 一種抗蝕劑下層膜形成用組合物,其包含:含有下述式(A)所示的結(jié)構(gòu)的聚合物、和溶劑。(在式(A)中,*表示結(jié)合鍵。)
        • 本發(fā)明提供粘附性細(xì)胞的培養(yǎng)方法,其包括在包含由非水溶性多糖類構(gòu)成的納米纖維的培養(yǎng)基中對粘附性細(xì)胞進(jìn)行懸浮培養(yǎng)的工序,其中,該培養(yǎng)伴隨攪拌而進(jìn)行。
        • 一種抗蝕劑下層膜,是作為抗蝕劑下層膜形成用組合物的涂布膜的燒成物的、抗蝕劑下層膜,上述抗蝕劑下層膜形成用組合物含有聚合物,上述聚合物含有:具有多環(huán)芳香族烴結(jié)構(gòu)的單元結(jié)構(gòu)(A)、和來源于馬來酰亞胺結(jié)構(gòu)的單元結(jié)構(gòu)(B)中的至少任一單元結(jié)構(gòu),...
        • 本發(fā)明提供能得到膜強(qiáng)度高、AC殘像受抑制,且即使在高溫下長時(shí)間暴露后電壓保持率也高的液晶取向膜的液晶取向劑、由該液晶取向劑得到的液晶取向膜以及使用了該液晶取向膜的液晶顯示元件。一種液晶取向劑,含有下述(A)成分和由下述式(1)表示的化合...
        • 一種液晶取向劑,其含有通過聚合性不飽和烴基的聚合而得到的聚合物,且含有選自酮酸烷基酯和二元酸二烷基酯中的至少一種作為溶劑。
        • 提供對主要作為有機(jī)溶劑的抗蝕劑溶劑、作為堿性水溶液的抗蝕劑顯影液顯示良好的耐性,同時(shí)對濕蝕刻藥液顯示良好的除去性(溶解性)的抗蝕劑下層膜。一種i射線用抗蝕劑下層膜形成用組合物,其包含:2官能以上的縮水甘油基酯型環(huán)氧樹脂、與下述式(A)所...
        • 一種粘接劑組合物,其含有具有酰胺鍵和聚有機(jī)硅氧烷結(jié)構(gòu)的聚合物。
        • 提供一種組合物,是可以形成對堿性過氧化氫水、酸性過氧化氫水等半導(dǎo)體用濕蝕刻液的耐性優(yōu)異的保護(hù)膜的保護(hù)膜形成用的組合物,其對抗蝕劑溶劑也顯示優(yōu)異的耐性,也可以作為抗蝕劑下層膜形成用的組合物有效地使用。一種針對半導(dǎo)體用濕蝕刻液的保護(hù)膜形成用...
        • 作為形成波長轉(zhuǎn)換效率和耐久性優(yōu)異的波長轉(zhuǎn)換膜的波長轉(zhuǎn)換膜形成用組合物,提供含有(A)由下述式(1)表示的熒光體和(B)粘結(jié)劑的波長轉(zhuǎn)換膜形成用組合物。(式中,Ar1和Ar2各自獨(dú)立地為可具有取代基的芳環(huán),R1和R2各自獨(dú)立地為氫原子、可...
        • 提供能夠沒有孔隙(空隙)地埋入微細(xì)化發(fā)展的半導(dǎo)體基板上的微細(xì)孔,在膜形成時(shí)的膜燒成時(shí)產(chǎn)生的升華物少的抗蝕劑下層膜形成用組合物、和兼具在半導(dǎo)體基板加工中作為對濕蝕刻藥液的保護(hù)膜的功能的藥液耐性保護(hù)膜組合物。一種抗蝕劑下層膜形成用組合物或保...
        • 本發(fā)明提供了一種聚合物組合物,其包含作為能夠通過更簡單的工藝制作耐光性高的單層相位差材料的新型聚合物的具有下述式(a)所示的具備光反應(yīng)性部位的側(cè)鏈的(A)側(cè)鏈型聚合物、以及(B)有機(jī)溶劑,(A)成分是以少于全部側(cè)鏈的20摩爾%的量包含具...
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