采用在包含二亞芐基丙酮的鈀0價絡合物的催化劑、由下述式(L)表示的配體和堿的存在下使氟化芳族伯胺化合物與氯化、溴化或碘化芳族烴或者擬鹵化芳族烴反應的氟化芳族仲胺化合物的制造方法，在沒有使用特殊的催化劑的情況下使氟化芳族胺化合物與氯化、溴...

本發明提供一種能得到具有高電壓保持率、高透光率，此外蓄積電荷的緩和快、殘影特性優異的液晶取向膜的液晶取向劑、該液晶取向膜以及液晶顯示元件。一種液晶取向處理劑，其特征在于，含有聚合物(P)，所述聚合物(P)選自由使用包含下述式(1)所示的...

本發明提供一種不需要繁雜的操作，并且能夠進行廉價地大規模生產的脂質肽化合物的實用制造方法。該方法是通過將式(1)表示的酯化合物的非極性溶劑溶液與含有堿和式(2)表示的α

本發明提供一種單層相位差膜的制造方法，其包括以下工序：(I)將聚合物的單層相位差膜形成用聚合物組合物涂布于基板上并干燥，形成涂膜的工序，所述聚合物在側鏈上具有通過紫外線進行光反應的光反應性部位；(II)第一曝光工序，其中，對所述涂膜照射...

本發明的課題是提供可以抑制在形成涂布膜時可能發生的微小粒子等引起的缺陷產生的抗蝕劑下層膜形成用組合物。解決手段是一種含有硅的抗蝕劑下層膜形成用組合物，其含有：[A]聚硅氧烷；[B]標準沸點為230.0℃以上，并且，下述式(1)所示的二醇...

本發明的課題是提供用于形成不僅通過采用以往的干蝕刻的方法，而且通過采用使用了藥液的濕蝕刻的方法也能夠除去，光刻特性優異，在濕蝕刻中也可以實現高蝕刻速度的抗蝕劑下層膜的含有硅的抗蝕劑下層膜形成用組合物。解決手段是一種含有硅的抗蝕劑下層膜形...

本發明涉及一種液晶取向劑，其含有聚合物(A)，該聚合物(A)為選自由具有下述式(1)所示的重復單元(a1)的聚酰亞胺前體和作為該聚酰亞胺前體的酰亞胺化物的聚酰亞胺構成的組中的至少一種。(R1至R4的至少一個為氫原子以外的基團，例如表示碳...

本發明提供一種液晶取向劑，其能得到膜強度高且表現出高各向異性的液晶取向膜。一種液晶取向劑，其含有下述的(A)成分和(B)成分。(A)成分：具有使液晶取向的能力的聚合物(A)。(B)成分：下述式(1)所示的羥基烷基酰胺化合物(B)。(式(...

本發明提供半導體基板的清洗方法、包括這樣的清洗方法的經加工的半導體基板的制造方法以及用于這樣的清洗方法的組合物，所述半導體基板的清洗方法能通過簡便的操作從其表面具有使用例如硅氧烷系粘接劑得到的粘接層的半導體基板上在更短時間內且更干凈地去...

一種自由基產生膜形成組合物，其特征在于，含有下述成分：成分(A)：用作橫向電場驅動用液晶取向劑的取向成分的聚合物、及成分(B)：具有下述式(1)所表示的基團的含硅化合物。＊

一種層疊體，具有：支承基板；半導體基板，在所述支承基板側具有凸塊；無機材料層，介于所述支承基板與所述半導體基板之間，且與所述半導體基板相接；以及粘接層，介于所述支承基板與所述無機材料層之間，且與所述支承基板和所述無機材料層相接，所述層疊...

一種自由基產生膜形成組合物，其含有下述成分：成分(A)：用作橫向電場驅動用液晶取向劑的取向成分的聚合物、及成分(B)：含有下述式(1)所表示的基團、且具有源自具有聚合性碳

本發明的課題是提供在晶片的研磨工序中以去掉激光標記周邊部的隆起作為目的而提供平坦的研磨面的研磨用組合物、以及使用了該研磨用組合物的晶片的研磨方法。解決手段是一種研磨用組合物，是用于消除在采用包含二氧化硅粒子、水和堿性化合物的硅晶片的1次...

本發明涉及一種聚合物組合物，其含有聚合物(A)，所述聚合物(A)具有式(i－1)～(i－3)中的任意式所示的部分結構且在主鏈具有從部分結構中去掉R而成的結構。(R為具有兩個芳香族烴環和氮原子(A)的一價有機基團。在一價有機基團中，兩個芳...

本發明提供一種能得到具有高電壓保持率的液晶取向膜并且降低吸濕白化的風險，量產穩定性優異的液晶取向劑、以及具備該液晶取向膜的液晶顯示元件。一種液晶取向劑，其特征在于，含有下述的(A)成分。(A)成分：是選自由具有下述式(a)所示的重復單元...

一種固化性組合物，其含有下述(A)成分和(B)成分。(A)成分：包含下述式[1]所示的化合物的單官能自由基聚合性化合物，(B)成分：自由基引發劑。X1?

課題是提供一種能夠充分發揮氰尿酸鋅具有的金屬表面的防蝕等功能的涂料組合物及其制造方法和涂膜。解決手段是一種涂料組合物，包含涂料添加劑和樹脂，所述涂料添加劑包含分散質粒子分散于液態介質而得到的分散液，所述分散質粒子包含無機氧化物粒子和氰尿...

本發明提供一種實用上有效的晶片表面的外周部呈環狀露出的帶有功能膜的晶片的制造方法，在帶有功能膜的晶片的制造方法中，即使將高粘度涂布型材料用作包含功能膜構成成分的涂布型材料的情況下，也將晶片的表面的外周部的功能膜去除干凈，經去除的功能膜的...

根據一種單層相位差材料的制造方法，能夠制作相位差值及雙折射高的單層相位差材料，所述單層相位差材料的制造方法包含以下工序：(I)將聚合物組合物涂布于基板上并干燥，形成涂膜；以及(II)對所述涂膜照射偏振光紫外線，所述聚合物組合物包含在側鏈...

一種液晶顯示元件的制造方法，其包含下述步驟：在使含有液晶及下述式(A)所示的自由基聚合性化合物的液晶組合物與自由基產生膜接觸的狀態下，使上述自由基聚合性化合物進行聚合反應。(式(A)中，M表示能夠自由基聚合的聚合性基團，R1～R3各自獨...