本發(fā)明使用少量的蝕刻除去多晶硅中包含的污染物，實(shí)現(xiàn)高純度的多晶硅。使用使氟硝酸與多晶硅接觸的第一清洗工序和使含氟酸的非氧化性藥水與經(jīng)過(guò)所述第一清洗工序的多晶硅接觸的第二清洗工序，來(lái)清洗多晶硅。

本發(fā)明的飛灰的改性方法的特征在于，包括：加熱工序，將含有未燃碳的飛灰原粉加熱至780～1000℃的溫度，使該飛灰原粉中所含的未燃碳量降低；以及，冷卻分級(jí)工序，將由所述加熱工序得到的熱處理飛灰在保持于高溫的狀態(tài)下導(dǎo)入冷卻分級(jí)裝置，分離為細(xì)...

本發(fā)明提供光致變色光學(xué)物品、及該光致變色光學(xué)物品的制造方法，所述光致變色光學(xué)物品是利用包含(A)光致變色化合物及(B)氨基甲酸酯樹(shù)脂的粘接層將一對(duì)光學(xué)物品用板接合而成的，前述(B)氨基甲酸酯樹(shù)脂是將下述化合物聚合而得到的樹(shù)脂。(B1)多...

本發(fā)明涉及一種氨基甲酸酯樹(shù)脂，其是通過(guò)使至少含有以下成分的聚合性組合物反應(yīng)而得到的：分子內(nèi)具有2個(gè)含活性氫基團(tuán)的含2官能活性氫化合物(C1)與分子內(nèi)具有2個(gè)異(硫)氰酸酯基的含2官能異(硫)氰酸酯基化合物(B1)反應(yīng)而得到的、分子末端具...

一種具有固化覆蓋層的塑料透鏡的制造方法，其特征在于，在塑料透鏡的一個(gè)表面形成由光固化性涂覆組合物形成的未固化覆蓋層，接著，對(duì)形成有該未固化覆蓋層的塑料透鏡，從未固化覆蓋層的外表面的上方利用在350nm以上且低于450nm的范圍內(nèi)具有發(fā)光...

提供光致變色固化性組合物、和使上述光致變色固化性組合物聚合而得到的光致變色固化物，所述光致變色固化性組合物含有：在一分子中具有至少一個(gè)氧雜環(huán)丁基的自由基聚合性單體；光致變色化合物；和，除上述聚合性單體以外的自由基聚合性單體。

開(kāi)發(fā)一種如下的方法：在通過(guò)西門子法進(jìn)行的多晶硅棒的制造中，更大幅地改善來(lái)自氣體供給噴嘴的硅沉積用原料氣體的噴出量，由此使氣流的流勢(shì)增強(qiáng)，以在鐘罩內(nèi)的上部與下部的原料氣體的循環(huán)性優(yōu)異的狀態(tài)實(shí)施所述制造。作為多晶硅棒制造用反應(yīng)爐，作為氣體供...

在多晶硅破碎塊中，對(duì)于源自破壞工具的材質(zhì)而不可避免地產(chǎn)生污染的鎢、鈷，能一起高度地去除。一種多晶硅破碎塊，其特征在于，表面金屬濃度為15.0pptw以下，優(yōu)選為7.0～13.0pptw，所述表面金屬濃度中，表面鎢濃度為0.9pptw以下...

提供一種具有(甲基)丙烯酰基的磷酸酯與鉍鍵合得到的鉍化合物，其毒性少，可溶于單體，可用于光學(xué)用途，且可代替鉛化合物，以及提供一種通過(guò)使(甲基)丙烯酸鉍或次水楊酸鉍與具有(甲基)丙烯酰基的磷酸酯反應(yīng)而脫水，制造所述鉍化合物的方法。

本發(fā)明的飛灰的改性方法包括以下工序。加熱工序，將含有未燃碳的飛灰原粉加熱至780～1000℃的溫度，使該飛灰原粉中所含的未燃碳量降低；分級(jí)工序，將由所述加熱工序得到的未燃碳量降低的熱處理飛灰以保持于高溫的狀態(tài)導(dǎo)入分級(jí)裝置，從而分離為粗粉...

提供一種功能性透鏡，其包含：功能性層疊體(A)和合成樹(shù)脂層(B)，所述功能性層疊體(A)在由聚酰胺樹(shù)脂等樹(shù)脂形成的第一光學(xué)片(Aa)與第二光學(xué)片(Ab)之間具備具有光致變色特性和/或偏振性的功能性層(Ac)，所述合成樹(shù)脂層(B)是在功能...

一種氮化硅粉末的制造方法，其特征在于，包括如下工序：準(zhǔn)備包含90質(zhì)量％以上的硅粉末的原料粉末的工序；將前述原料粉末填充至耐熱性反應(yīng)容器的工序；在氮?dú)鈿夥障拢瑢?duì)填充至前述反應(yīng)容器的原料粉末點(diǎn)火，通過(guò)使硅的氮化燃燒熱傳播至該原料粉末整體的燃...

硅塊的整形加工用錘(1)是用以使硅塊碎裂，且對(duì)硅塊進(jìn)行整形加工的錘，且具備：包含樹(shù)脂的柄(10)、以及固定于柄(10)上的錘頭(20)。

一種隔膜－墊片－防護(hù)構(gòu)件復(fù)合體，其具有：隔膜，其具有離子滲透性；墊片，其保持隔膜的周緣部；及防護(hù)構(gòu)件，其呈電絕緣性，且呈框狀，該防護(hù)構(gòu)件保持墊片，防護(hù)構(gòu)件具有框狀的基體和框狀的蓋構(gòu)件，基體具有：接受容納部，其設(shè)于該基體的內(nèi)周側(cè)，能夠接受...

一種堿性水電解用電解槽，其具有下述構(gòu)造：在陽(yáng)極端組件和陰極端組件之間，以隔著周緣部被防護(hù)構(gòu)件保持的隔膜的方式，交替地配置有多個(gè)陽(yáng)極室單元和陰極室單元，該陽(yáng)極端組件和陰極端組件均具有夾框、絕緣板和端單元，在各極室單元設(shè)有各極液供給用流通部...

一種堿性水電解裝置，其包括：電解槽；第1氣液分離器，其對(duì)從陽(yáng)極室流出的電解液和氧氣進(jìn)行氣液分離；第2氣液分離器，其對(duì)從陰極室流出的電解液和氫氣進(jìn)行氣液分離；第1電解液箱和第2電解液箱，該第1電解液箱貯存由第1氣液分離器進(jìn)行氣液分離后得到...

根據(jù)本發(fā)明，提供一種阿齊沙坦A型晶體的制造方法，所述阿齊沙坦A型晶體根據(jù)使用Cu?Kα射線的X射線衍射，至少在2θ＝9.2°、12.1°、21.6°、23.7°處具有特征峰，所述制造方法的特征在于，使至少在2θ＝9.4°、11.5°、1...

本發(fā)明的課題在于提供一種用于去除附著于半導(dǎo)體晶圓的端面部、背面部的釕和鎢的處理液以及清洗方法。本發(fā)明的技術(shù)方案是一種處理液，其是用于清洗半導(dǎo)體晶圓的處理液，所述處理液含有(A)次氯酸根離子和(C)溶劑，所述處理液的25℃下的pH大于7且...

本發(fā)明提供不銹鋼部件及其制造方法，所述不銹鋼部件在由不銹鋼形成的母材表面形成有鈍化層，且鈍化層的膜厚為2～20nm，鈍化層的最表面的鉻原子的原子濃度為0.1～2.3原子％。另外，提供由該不銹鋼部件構(gòu)成與半導(dǎo)體處理液接觸的接液部的裝置或容...

利用溶膠?凝膠法，在不易生成粗粒、凝集顆粒的條件下制造復(fù)合氧化物微粒，進(jìn)一步通過(guò)使用過(guò)濾器進(jìn)行濕式過(guò)濾從而去除粗粒、凝集顆粒。接著，使鹽存在于復(fù)合氧化物微粒分散液中，在該分散液中生成復(fù)合氧化物微粒以弱力進(jìn)行凝集而得到的凝集體。將生成了這...