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        九江德福科技股份有限公司專利技術

        九江德福科技股份有限公司共有471項專利

        • 本發明公開了一種用于高抗拉銅箔的無鉻鈍化液及其制備方法和應用,所述無鉻鈍化液,按重量份計,組分包括:3?20份成膜劑,1?10份無機鹽,1?5份抗氧化劑,0.1?2份表面活性劑,5?20份溶劑,余量為水。本發明所制備的無鉻鈍化液采用直接...
        • 本發明公開了一種可控超薄鋰電銅箔光澤度的添加劑及銅箔制備工藝,包含光亮劑、潤濕劑、整平劑和UPS;所述光亮劑為MPS、2?MP、DPS、HP、SPS和硫脲中至少一種;潤濕劑為PEG和EO中至少一種,整平劑成分為苯并三氮唑,聚乙烯亞胺、J...
        • 本發明公開了一種用于鋰電銅箔無鉻鈍化的方法,具體步驟如下:步驟1、首先將鋰電銅箔從陰極輥上剝離,經過過渡輥,進入鈍化槽;步驟2、在鈍化槽中加入無鉻鈍化的鈍化液;步驟3、鋰電銅箔在鈍化槽中浸漬并施加陰極鈍化電流;步驟4、鋰電銅箔通過擠液輥...
        • 本發明公開了一種高溫超高強度高延伸鋰電銅箔及其生產工藝,包括以下步驟:步驟S1、配置電解液,將原料銅在硫酸溶液中溶解形成溶解液,過濾除雜后與復合添加劑混合,得到電解液;其中,復合添加劑包括有機硫化物、明膠、聚乙二醇、含氮類化合物、聚醚類...
        • 本發明公開了一種用于高抗拉高延伸鋰電銅箔生產的添加劑及其應用,所用到的添加劑包括A劑、B劑和C劑,其中,A劑的成分和份數為:含硫基團的化合物30?100份;B劑的成分和份數:明膠5?10份和含氮的胺類有機物1?10份;C劑的成分和份數:...
        • 本發明公開了一種低輪廓高抗拉強度超厚電解銅箔的制備方法,具體包括以下步驟:S1、將金屬銅單質溶解成硫酸銅電解液;S2、向電解液中添加一定濃度的胞間二氮苯和聚乙二醇混合添加劑;S3、在一定的電流密度下,銅連續沉積在陰極鈦輥上進行電解制備銅...
        • 本發明公開了一種可剝離負載體銅箔的生產方法,具體包括以下步驟:S01、電化學沉積載體銅層:在電解生箔機臺通過直流電化學沉積在含有添加劑的硫酸銅電解液中通過沉積厚度不低于12μm的載體銅層;S02、剝離層制備:通過化學沉積或電化學沉積的方...
        • 本發明公開了一種降低附載體超薄銅箔針孔的方法。附載體超薄銅箔由載體層,復合功能層,超薄銅層所組成。復合功能層結構為打底層?阻擋層?剝離層。本發明采用等離子體轟擊輔助成膜技術。增強復合功能層內各膜層間結合力,同時增強復合功能層與載體層間結...
        • 本發明公開了一種電解銅箔壓板板翹的預判方法,具體包括以下步驟:步驟一、梯度溫度熱處理:將待壓板的每種電解銅箔取樣、裁切,分別放置在梯度溫度T<subgt;1</subgt;、T<subgt;2</subgt;、T...
        • 本發明公開了一種撓性銅箔的制備方法,具體包括以下步驟:S1、往含有硫酸溶液的溶銅罐中加入原材料單質銅線、銅板,單質銅的含銅量≥99.9%。往溶銅罐中通入高溫空氣,使空氣中的氧氣、硫酸和銅線反應制備硫酸銅電解液;S2、往硫酸銅電解液中加入...
        • 本發明公開了一種輕型雙面粗糙化特種銅箔的制備方法,本發明涉及銅箔制備技術領域。該輕型雙面粗糙化特種銅箔的制備方法,采用相同厚度的高分子聚合物薄膜代替原有電解銅箔,可降低單位面積的重量,提升電池的能量密度。經過雙面粗糙化處理的銅箔,其粗粗...
        • 本發明公開了一種無透光點的復合銅箔制備方法,具體包括以下步驟:步驟一:將整卷聚合物薄膜放入磁控濺射真空鍍膜機內進行真空處理;步驟二:聚合物薄膜經過特殊處理的輥系放卷展開,再在聚合物薄膜雙面均磁控濺射一層致密的銅層,使聚合物薄膜金屬化;步...
        • 本發明公開了一種埋阻銅箔的制備及其電阻測試方法,屬于印制線路板技術領域。以解決真空濺射法與化學誘導沉積法生產投入大,電鍍法工藝控制難度大的問題。埋阻銅箔的制備方法包括對基底銅箔進行去氧化預處理、電鍍電阻層、水洗并烘干;以上埋阻銅箔的電阻...
        • 本發明公開了一種具備雙面疏松結構的電解銅箔及其制法、用途,屬于電解銅箔技術領域,以解決現有技術中缺乏電解銅箔可同時應用于鋰離子電池負極和印制線路板中的問題。該電解銅箔包括以下結構:致密銅層、生長在致密銅層雙向表面上的疏松結構銅層、包覆于...
        • 本技術涉及銅箔生產設備技術領域,具體公開了一種電解銅箔幅寬可控的陰極屏蔽裝置,包括支撐架,支撐架外側固定安裝有顯示屏,支撐架頂部設置有方軌,方軌外部鑲嵌設置有滑套一、滑套二,滑套一頂部表面通過螺栓固定安裝有激光測距儀,滑套二頂部設置有與...
        • 本發明公開了一種等離子處理銅箔表面方法,通過將銅箔放置在等離子清潔裝置上,所述等離子清潔裝置主要由工作臺、移動支架、等離子發生器和射頻電源組成,所述等離子發生器通過高度調節機構安裝在移動支架上,所述移動支架在工作臺上水平移動,所述等離子...
        • 本技術公開了一種真空鍍膜膜層表面冷卻裝置,包括放卷倉、預處理倉、真空濺射倉和收卷倉,所述放卷倉的內部一側轉動連接有放卷輥,所述放卷倉的一側設置有預處理倉;所述預處理倉的一側設置有真空濺射倉,所述真空濺射倉的一側設置有收卷倉。通過上述結構...
        • 本發明公開了一種用于鹽湖提鋰的納濾膜及制備方法,包括如下步驟:步驟1、聚合物基膜制備;步驟2、配置水相溶液;步驟3、配置有機相溶液;步驟4、界面聚合反應。通過本申請方法制備的納濾膜包括無紡布基層、親水性多孔支撐層和聚酰胺分離層。聚酰胺層...
        • 本發明公開了一種薄銅箔表面金屬含量測定方法,包括如下步驟:S1、將銅箔非待測面涂覆硅烷偶聯劑,烘干;S2、將步驟S1測定的待測銅箔使用硫酸溶液浸泡溶解定容后使用ICP檢測樣品中鋅、鉻、鎳、等離子的含量;S3、將步驟S1中未涂覆硅烷偶聯劑...
        • 本技術涉及一種恒溫自凈的復合添加劑配制添加系統,包括補水桶,補水桶的出口端一通過管路一與若干個攪拌桶的入口端連接,每個攪拌桶的出口端通過管路三與混合配制桶的入口端一連接,補水桶的出口端二通過管路二與混合配制桶的入口端二連接,混合配制桶的...
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