一種圖像修正方法、檢測方法和相關設備，包括：獲取待處理圖像；將所述待處理圖像劃分為多個第一區域；獲取所述待處理圖像中各個第一區域的偏移量，所述偏移量與所述待處理圖像中多個第一區域一一對應；根據所獲取的偏移量對所述待處理圖像中的各個第一區...

一種檢測方法、裝置、終端設備以及計算機可讀存儲介質，檢測方法，包括：獲取待測件的三維數據；根據三維數據計算待測件在第一坐標系下的姿態信息；根據姿態信息，驅動待測件調整至目標姿態；獲取待測件位于目標姿態下的檢測圖像，檢測圖像為二維圖像。本...

本發明實施例公開了一種晶圓缺陷檢測方法、裝置及系統和計算機可讀存儲介質。所述晶圓缺陷檢測方法例如包括：獲取與待測晶圓對應的待測晶圓圖像；根據所述待測晶圓圖像和基于深度學習的語義分割模型得到所述待測晶圓的晶圓缺陷信息，其中，所述基于深度學...

本發明提供一種動態劃定檢測區域的面板檢測方法，包括：通過高度測量探頭獲取面板表平面上的采樣點的第一高度信息，所述面板表平面在所述圖像檢測傳感器的檢測視場范圍內包含的采樣點數量為多個；將所述采樣點按照對應的所述第一高度信息聚類得到所述面板...

本發明實施例公開了一種承載裝置，包括：底板；頂板，與所述底板相對設置；驅動電機，固定在所述底板上且所述驅動電機的輸出端連接所述頂板；彈簧片，疊放在所述底板和所述頂板之間，且鄰近所述驅動電機設置；所述彈簧片具有相對的第一固定區域和第二固定...

本發明實施例公開了一種晶圓缺陷檢測方法、裝置及系統和計算機可讀存儲介質。所述晶圓缺陷檢測方法例如包括：獲取與待測晶圓對應的待測晶圓圖像；根據所述待測晶圓圖像和基于偽標簽學習算法的深度學習模型得到所述待測晶圓的晶圓缺陷信息，其中，所述深度...

本發明實施例公開了一種晶圓缺陷檢測方法、裝置及系統和計算機可讀存儲介質。所述晶圓缺陷檢測方法例如包括：獲取與待測晶圓對應的待測晶圓圖像；以及根據所述待測晶圓圖像、及基于偽標簽學習和知識蒸餾算法的深度學習模型得到所述待測晶圓的晶圓缺陷信息...

本技術公開了一種檢測設備，包括檢測腔體、進風系統和排風系統，其中，檢測腔體內設置有檢測機臺；進風系統設置于檢測腔體的頂部，且用于將檢測設備的外部氣流均勻送入檢測腔體；排風系統設置于檢測腔體的底部，且用于將檢測機臺與檢測腔體所形成的四周間...

本申請公開了一種承載裝置和檢測設備，該承載裝置包括承載基體和吸盤件。承載基體具有承載側，承載側用于承載工件。承載側具有分隔結構，分隔結構將承載側分隔為多個吸附區域，每個吸附區域內均具有吸附槽和位于吸附槽內的吸附孔。每個吸附區域內均設置有...

一種測量方法、測量系統及測量設備，其中所述測量方法包括：通過所述第一測量組件對所述第一表面進行測量，獲取第一表面在所述測量坐標系下的坐標得到第一基準面；根據待測側壁的第一待測位置與第一表面的第一參考位置關系，獲取第一待測位置在所述測量坐...

本申請公開了一種光學系統，光學系統包括照明光路和成像光路，照明光路用于對待檢測物投射照明光束，成像光路用于對待檢測物產生的檢測光束進行成像以形成檢測圖像；照明光路包括在光路上依次設置的光源、勻光元件和偏振元件；勻光元件用于對光源發出的照...

本申請公開了一種檢測設備，包括檢測臺、轉動連接于所述檢測臺上的轉盤以及圍繞所述轉盤的周向依次排布的上料承載座、搬運機構、下料承載座和視覺檢測裝置；所述轉盤上形成有至少兩個工件放置位，所述工件放置位在所述轉盤轉動的過程中循環經過檢測工位和...

一種缺陷檢測方法及檢測系統、設備和存儲介質，方法包括：獲取待測芯片的芯片圖像；對所述芯片圖像進行第一圖像處理，所述第一圖像處理包括：對所述芯片圖像進行邊緣檢測處理，得到輪廓線圖；對所述輪廓線圖進行濾除處理，以濾除所述待測芯片的各輪廓線，...

本申請提供一種承載組件及平面度檢測裝置，承載組件包括基板及多個限位件，基板具有用于放置工件的支撐面，基板上開設有第一限位槽和第二限位槽；第一限位槽沿第一方向貫穿支撐面，和/或，第二限位槽沿與第一方向相交的第二方向貫穿支撐面；第一限位槽的...

本申請提供一種缺陷檢測方法、缺陷檢測裝置、缺陷檢測設備、檢測系統及計算機可讀存儲介質，該方法包括：獲取待測物上多個連續排布的重復單元對應的多個待測目標圖像，待測目標圖像的數量與所述重復單元的個數相同；獲取多個待測目標圖像對應的標準圖像；...

本申請公開一種檢測設備，包括：機臺；可轉動地設置于機臺上的第一料盤，第一料盤上設置有若干用于承載待測產品的第一工裝；環繞第一料盤布置的第一相機組件和第二相機組件，第一相機組件用于待測產品的鐳射檢測和高度檢測，第二相機組件用于待測產品的外...

本技術公開了一種保護系統和檢測設備，保護系統包括：氣壓監測裝置，氣壓監測裝置用于監測平衡氣缸的氣源數值；以及制動裝置，制動裝置用于在平衡氣缸的氣源數值超出設定范圍時使平衡氣缸的氣缸運動部停止運動；其中，設定范圍為平衡氣缸所需的氣源數值范...

一種調節裝置及檢測設備，調節裝置包括支撐件、承載件和調節件；承載件與支撐件轉動配合設置，用以承載和固定被調件；調節件可直線移動地設置于支撐件并位于承載件的邊側；調節件能夠通過抵推承載件的受力斜面，而驅使承載件帶動被調件繞預設軸線相對支撐...

本技術公開了一種晶圓檢測設備，包括光學系統、系統大板、運動平臺和平整度調節機構，其中，運動平臺、平整度調節機構、系統大板和光學系統依次層疊設置，平整度調節機構被配置為調節系統大板與運動平臺之間的距離和角度。本技術的晶圓檢測設備在使用時，...

本技術公開了一種按壓系統，包括：支撐座，支撐座上分別開設有第一滑槽以及第二滑槽；壓桿，壓桿的側壁上分別設置有第一滑動部以及第二滑動部，第一滑動部與第一滑槽滑動配合，第二滑動部與第二滑槽滑動配合；驅動件，驅動件位于支撐座的一側，驅動件的驅...