本發明的永久抗蝕劑用的感光性樹脂組合物含有：(A)酸改性含乙烯基樹脂、(B)光聚合性化合物、(C)光聚合引發劑、(D)無機填料及(E)有機硅烷化合物，無機填料包括表面處理填料。

本發明的感光性樹脂組合物含有順丁烯二酰亞胺化合物、交聯劑及光聚合引發劑，順丁烯二酰亞胺化合物為四羧酸二酐(a1)、胺(a2)及順丁烯二酸酐(a3)的反應物，胺(a2)包含二聚體二胺及二聚體二胺以外的第2胺，四羧酸二酐(a1)及胺(a2)...

一種聚馬來酰亞胺樹脂，其是使四羧酸二酐(a1)、二胺(a2)、三胺(a3)及馬來酸酐(a4)反應而成，其中，二胺(a2)包含二聚體二胺。

本發明的感光性樹脂組合物含有順丁烯二酰亞胺化合物、交聯劑及光聚合引發劑，順丁烯二酰亞胺化合物為四羧酸二酐(a1)、二胺(a2)、三胺(a3)及順丁烯二酸酐(a4)的反應物，二胺(a2)包含二聚體二胺。

提供一種氟化氫的吸附容量大的氟化氫吸附劑的制造方法。一種氟化氫吸附劑的制造方法，具備吸附工序和脫離工序，吸附工序使含氟化氫的氣體與金屬氟化物接觸而使含氟化氫的氣體中的氟化氫吸附于金屬氟化物，含氟化氫的氣體含有氟化氫和用于稀釋該氟化氫的稀...

公開一種樹脂組合物的制造方法。該樹脂組合物的制造方法包括如下工序：使四羧酸二酐和多胺在有機溶劑中進行反應而獲得聚酰亞胺樹脂；及使馬來酸酐與聚酰亞胺樹脂進行反應而獲得含有聚馬來酰亞胺樹脂及有機溶劑的樹脂組合物。多胺包含二聚物二胺。有機溶劑...

本發明提供一種膜狀黏合劑，其為由具有熱固性且含有填料的樹脂組合物構成且具有第一表面及第二表面的單層結構的膜狀黏合劑，所述膜狀黏合劑具有如下區域：該膜狀黏合劑的第一表面附近的區域且填料的含有率隨著從第二表面側朝向第一表面側減少的區域。

半導體裝置的制造方法具備如下工序：準備具有第1基板主體、第1絕緣膜及多個第1電極的第1半導體基板；準備具有第2基板主體、第2絕緣膜及多個第2電極的第2半導體基板；彼此貼合第1絕緣膜與第2絕緣膜并且接合多個第1電極與多個第2電極而獲得混合...

一種制造配線基板的方法，所述方法包括如下工序：在設置于基板的主面上且包含金屬的種子層上設置抗蝕劑層；通過抗蝕劑層的曝光及顯影，在抗蝕劑層上形成包括供種子層露出的開口的圖案；及通過電解鍍敷在開口內露出的種子層上形成包括具有小于10μm的寬...

一種接合體的制造方法，所述接合體是將支撐基板、元件材料、熱塑性膜A和樹脂B按照該順序配置并接合而成的，所述制造方法依次具有以下工序：在所述支撐基板上配置所述元件材料的工序1；以及在配置于所述支撐基板的狀態的元件材料的至少一部分上，介隔所...

公開一種樹脂組合物的制造方法。該樹脂組合物的制造方法包括如下工序：使四羧酸二酐和多胺在有機溶劑中進行反應而獲得聚酰亞胺樹脂；及使馬來酸酐與聚酰亞胺樹脂進行反應而獲得含有聚馬來酰亞胺樹脂及有機溶劑的樹脂組合物。多胺包含二聚物二胺。有機溶劑...

一種馬來酰亞胺樹脂，其是使四羧酸二酐(a1)、胺(a2)及馬來酸酐(a3)反應而成，其中，胺(a2)包含二聚體二胺和二聚體二胺以外的第2胺，四羧酸二酐(a1)及胺(a2)的至少一者包含具有芴骨架的化合物。

鋰離子二次電池負極用石墨質碳材料的通過X射線衍射求出的微晶直徑Lc(002)為35nm～150nm，在通過激光衍射散射法測定的粒徑分布中，在從小徑側起描繪體積累積分布曲線的情況下，累積90％時的粒徑(D90)相對于累積10％時的粒徑(D...

本發明公開了一種半導體裝置的制造方法。該半導體裝置的制造方法包括：準備層疊體的工序，該層疊體具備半導體基材、配置于半導體基材的主面的電極及配置于主面且含有具有固化性的樹脂材料的有機絕緣膜；使有機絕緣膜固化的工序；沿著切斷預定線切斷層疊體...

本發明涉及感光性元件及配線基板的制造方法。本發明的感光性元件涉及的感光性樹脂組合物含有粘合劑聚合物、包含3官能單體的光聚合性化合物、光聚合引發劑及香豆素系敏化劑。

一種半導體加工用保護片，具有基材、和依次設置在基材的一主面上的中間層與粘合劑層，中間層為含有不具有烯屬不飽和基的(甲基)丙烯酸系樹脂(A1)、和交聯劑(B1)的樹脂組合物的固化物，粘合劑層為含有具有烯屬不飽和基的(甲基)丙烯酸系樹脂(A...

本發明提供一種膜狀黏合劑，其為由具有熱固性且含有填料的樹脂組合物構成、且為具有第一表面及第二表面的單層結構的膜狀黏合劑，所述膜狀黏合劑具有：區域A，其為膜狀黏合劑的第一表面附近的區域且為填料的含有率隨著從第二表面側朝向第一表面側減少的區...

一種硬化性樹脂組合物，含有(A)橡膠成分、(B)具有環氧基的交聯成分、(C)酯系硬化劑及(D)填料。

一種熱固性黏合劑組合物，其包含：光裂解性化合物，通過放射線的照射而裂解并產生胺化合物；及熱固性樹脂，在上述胺化合物的存在下通過加熱而固化。一種層疊膜，其具備：基材膜；及黏合劑層，設置于基材膜的表面上，黏合劑層由上述熱固性黏合劑組合物構成。

一種研磨劑，其用于對包含氧化銦錫的被研磨面進行研磨，所述研磨劑含有磨粒、選自由碳原子數為3以下的二羧酸及其鹽組成的組中的至少一種二羧酸成分及水，所述磨粒包含二氧化硅并且具有正界達電位，pH為9.0以下。