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        株式會社力森諾科專利技術

        株式會社力森諾科共有1182項專利

        • 本發明提供一種配線基板(20)的制造方法,其具備:準備結構體(1a)的工序,該結構體在表面設置有銅層(2)的支撐體(1)上安裝有樹脂片(3),該樹脂片在有機樹脂中配置了玻璃纖維布;在樹脂片(3)的表面側且不存在玻璃纖維布的第1樹脂層區域...
        • 本發明公開了一種組合物,其含有具有交聯性官能團的親水性高分子交聯體及光自由基引發劑。交聯體是介由二硫鍵交聯的親水性高分子。子。
        • 提供一種在保存中分解不易進行的氟丁烯的保存方法。由通式C4H
        • 一種汽車的車輪用鋁合金,含有8.0質量%以上且11.5質量%以下的范圍內的Si、0.7質量%以上且1.2質量%以下的范圍內的Cu、0.2質量%以上且0.6質量%以下的范圍內的Mg、0.30質量%以上且0.60質量%以下的范圍內的Mn、0...
        • 本發明提供一種能夠得到高純度的一氧化碳的一氧化碳純化方法。在催化劑制備工序中,通過在加熱處理容器內對鉑催化劑進行加熱處理,從鉑催化劑中去除水分。進行該加熱處理直至供給至加熱處理容器內并用于加熱處理后從加熱處理容器排出的非活性氣體所含有的...
        • 零件內置基板的制造方法包括:提供中間部件(2)的工序,該中間部件(2)具備在第1面(13)設置有第1電極(11)的電子零件(10)及設置于電子零件(10)的第1面(13)上以覆蓋第1電極(11)的第1導電層(20);及在中間部件(2)的...
        • 本發明公開一種用于臨時固定半導體部件和支承部件的臨時固定用膜。該臨時固定用膜含有固化性樹脂成分。該臨時固定用膜的固化后的270℃的儲能模量為1.5~20MPa。該臨時固定用膜的固化后的25℃的儲能模量為1.5~150MPa。a。a。
        • 本發明的電路連接用黏合劑薄膜為包含導電粒子的黏合劑薄膜,該黏合劑薄膜在薄膜的厚度方向上包括含有無機填料的區域A,區域A由熱固性組合物形成,所述熱固性組合物含有體積基準的粒度分布中50%累積時的粒徑D50為0.5~1.0μm且95%累積時...
        • 一種漿料,其含有磨粒、碳原子數3以上的化合物X及水,所述磨粒包含鈰氧化物,所述化合物X的漢森溶解度參數的分散項dD為18.0MPa
        • 提供能夠與非蝕刻對象物相比選擇性地蝕刻含有硅的蝕刻對象物的蝕刻氣體以及蝕刻方法。蝕刻氣體含有用通式C4H
        • 本發明提供主要包含高分子的涂料、油墨、接合劑、在鋰離子電池的正極、負極、隔板等的涂布液中可于施工面形成易干燥性涂布物的組合物。一種包含填料、粘結劑、增稠劑與溶劑的涂布組合物,其特征在于,前述粘結劑包含選自二烯橡膠和(甲基)丙烯酸酯聚合物...
        • 硬化性樹脂組合物包含硬化性樹脂、以及下述通式(A)所表示的化合物。通式(A)中,R
        • 一種封邊材料,滿足下述(1)~(3)中的至少任一者。(1)包含硬化性樹脂、且25℃~50℃下的觸變指數為1.0以上;(2)含有環氧樹脂、硬化劑、無機填料,以及環狀碳二亞胺;(3)含有環氧樹脂、硬化劑,以及無機填料,且封邊材料的硬化物以熱...
        • 提供一種在保存中聚合不易進行的氟丁烯的保存方法。由通式C4H
        • 提供一種能夠與非蝕刻對象物相比選擇性地對含有硅的蝕刻對象物進行蝕刻的蝕刻氣體及蝕刻方法。一種蝕刻氣體,含有氟丁烯,所述氟丁烯由通式C4H
        • 提供能夠與非蝕刻對象物相比選擇性地蝕刻含有硅的蝕刻對象物的蝕刻氣體以及蝕刻方法。蝕刻氣體含有用通式C4H
        • 提供一種能夠與非蝕刻對象物相比選擇性地蝕刻含有硅的蝕刻對象物的蝕刻氣體和蝕刻方法。蝕刻氣體含有由通式C4H
        • 提供一種在保存中不易進行異構化反應的氟
        • 含有甲基橙皮苷作為有效成分的自噬激活劑、和含有該自噬激活劑和藥學上可接受的載體的自噬激活用組合物。的自噬激活用組合物。
        • 簡便地提供適合于具有曲面的三維成型的透明導電膜疊層體。一種透明導電膜疊層體,其特征在于,具有:由透明的熱塑性樹脂膜制成的透明基材;形成在上述透明基材的至少一個主面上,并且包含粘合劑樹脂和金屬納米線而制成的透明導電膜;以及形成在上述透明導...
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