作為能夠在實(shí)現(xiàn)環(huán)境負(fù)荷的減輕的同時(shí)形成薄的銅層、并且能夠?qū)⒃撱~層容易地剝離的層疊體，提供如下層疊體，其依次層疊有（A）支承基材、（B）由有機(jī)薄膜構(gòu)成的剝離層、和（C）無電解鍍敷催化劑層。

作為形成空穴傳輸性優(yōu)異的電荷傳輸性薄膜的電荷傳輸性清漆，提供如下電荷傳輸性清漆，其包含電荷傳輸性物質(zhì)、SiO2納米粒子、和溶劑，上述電荷傳輸性物質(zhì)包含芳基胺衍生物（其中，不包括由下述式（E1）表示的化合物。）。（式中，R1表示氫原子，R...

一種下層膜形成用組合物，其用于形成自組裝化膜的下層膜，所述下層膜形成用組合物含有乙烯基聚合物和交聯(lián)劑，上述乙烯基聚合物具備具有反應(yīng)性基團(tuán)和環(huán)結(jié)構(gòu)的單元結(jié)構(gòu)(A)，上述交聯(lián)劑具有能夠與上述反應(yīng)性基團(tuán)反應(yīng)的官能團(tuán)，在上述單元結(jié)構(gòu)(A)中，上...

作為金屬氧化物納米粒子的對于有機(jī)溶劑的分散性提高、形成具有電荷傳輸性、同時(shí)平坦性優(yōu)異的膜的電荷傳輸性墨組合物，提供包含以SnO2納米粒子為核、其表面被金屬氧化物被覆的金屬氧化物被覆SnO2納米粒子、和有機(jī)溶劑的電荷傳輸性墨組合物。

一種疊層體，其具有基板和表面改性膜，上述表面改性膜由含有感光性聚合物的感光性表面改性劑形成，并被照射了光或電子束，上述表面改性膜具有被照射了上述光或上述電子束的曝光區(qū)域、和未曝光區(qū)域，上述曝光區(qū)域和上述未曝光區(qū)域中的任一者為選擇性形成上...

本發(fā)明涉及一種抗蝕劑下層膜形成用組合物，其含有聚合物和交聯(lián)劑，所述聚合物具備具有多環(huán)芳香族結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)單元（A），所述抗蝕劑下層膜形成用組合物用于在使用了光致抗蝕劑膜或電子束抗蝕劑膜的光刻中，在含氮原子基板上形成所述抗蝕劑膜的下層膜。

本發(fā)明的課題是提供用于形成膜密度、硬度、楊氏模量、扭曲耐性(圖案的彎曲耐性)高，由此具有高的蝕刻耐性的抗蝕劑下層膜的抗蝕劑下層膜形成用組合物。解決手段是一種抗蝕劑下層膜形成用組合物，其包含具有下述式(1)所示的重復(fù)單元結(jié)構(gòu)的酚醛清漆樹脂...

提供一種液晶取向劑、由該液晶取向劑得到的液晶取向膜以及使用了該液晶取向膜的液晶顯示元件以及能用于它們的化合物和聚合物，所述液晶取向劑能得到液晶取向膜的膜強(qiáng)度優(yōu)異、并且液晶的取向均勻性優(yōu)異的液晶取向膜。一種液晶取向劑，其含有聚合物（A），...

本發(fā)明提供一種抗蝕劑下層膜形成用組合物，其包含化合物（A）和溶劑（B），所述化合物（A）含有具備鏈狀α,β?不飽和羰基的側(cè)鏈或末端。

本發(fā)明的課題是提供能夠充分地減少液體組合物中的甲醛濃度，并且抑制甲醛隨著時(shí)間經(jīng)過而增加的固化膜形成用組合物。解決手段是一種固化膜形成用組合物，其包含：(A)具有光取向性基的化合物；(B)聚合物，上述聚合物具有：具有N?羥基甲基或N?烷氧...

本發(fā)明涉及液晶取向劑、液晶取向膜、以及液晶表示元件。本發(fā)明涉及一種含有以下成分(A)、(B)和(C)的液晶取向劑：(A)選自由聚酰亞胺、聚酰胺酸、聚酰胺酸酯、聚有機(jī)硅氧烷、聚酯、聚酰胺、和具有聚合性不飽和鍵的單體的聚合物組成的組中的至少...

本發(fā)明提供一種含硅抗蝕劑下層膜形成用組合物，其含有水解性硅烷混合物的水解縮合物和有機(jī)溶劑，在所述水解縮合物中，硅烷醇基的至少一部分被醇系化合物封端，所述含硅抗蝕劑下層膜形成用組合物是用于形成在堿性藥液中顯示可溶性的含硅抗蝕劑下層膜的組合物。

提供一種新型殺菌劑、尤其農(nóng)園藝用殺菌劑。提供式(1)所示的吡唑化合物或其鹽。式中，G代表G?1，G1代表C1～C6鹵代烷基等，T代表氧原子，RX代表C1～C6烷基等，RY代表氫原子等，R1代表氫原子等，R2代表氫原子等，R3代表氫原子等...

提供一種液晶取向膜和液晶取向劑，所述液晶取向膜和液晶取向劑提供具有高預(yù)傾角的液晶顯示元件。一種液晶取向劑，其特征在于，含有下述(B)成分。(B)成分：具有下述式(1)所示的重復(fù)單元結(jié)構(gòu)的聚合物(B)。(W表示具有選自由碳原子數(shù)4～40的...

本發(fā)明提供一種能得到以比以往高的水平抑制AC殘像的液晶取向膜的液晶取向劑、該液晶取向膜以及使用了該液晶取向膜的液晶顯示元件。一種液晶取向劑，其特征在于，所述液晶取向劑含有選自由具有由下述式（1）表示的重復(fù)單元（a1）的聚酰亞胺前體和作為...

提供能夠形成對半導(dǎo)體用濕蝕刻液的耐性優(yōu)異的保護(hù)膜，并且干蝕刻時(shí)的蝕刻速度快，能夠高蝕刻速率(ER)化的保護(hù)膜形成用的組合物，該組合物也能夠有效地用作抗蝕劑下層膜形成用的組合物。是一種針對半導(dǎo)體用濕蝕刻液的保護(hù)膜形成用組合物，其包含：(A...

提供一種液晶取向膜，即使在利用光取向法的取向處理中的光照射量少的情況下，也抑制AC殘像。此外，提供一種液晶取向膜，能減小液晶取向膜面內(nèi)的液晶分子的扭轉(zhuǎn)角的不均(不均勻性)。一種液晶取向劑，其含有聚合物(P)，該聚合物(P)是選自由使用如...

本發(fā)明提供一種針對半導(dǎo)體用濕蝕刻液的保護(hù)膜形成用組合物，其包含成分(A)：成膜成分、成分(B)：具有直接鍵合了酰氧基的芳香族環(huán)的化合物、及成分(C)：溶劑。

本發(fā)明以提供要求在蝕刻后密度和硬度高、不彎曲的抗蝕劑下層膜的特性的抗蝕劑下層膜、可以形成該抗蝕劑下層膜的抗蝕劑下層膜形成用組合物、抗蝕劑圖案的形成方法和半導(dǎo)體裝置的制造方法作為目的。解決手段是一種抗蝕劑下層膜形成用組合物，其包含通過甘脲...

一種剝離劑組合物，其是光照射剝離用的剝離劑組合物，所述剝離劑組合物含有聚合物和溶劑，所述聚合物具有第一結(jié)構(gòu)、第二結(jié)構(gòu)以及第三結(jié)構(gòu)，所述第一結(jié)構(gòu)具有吸收光并對由所述剝離劑組合物形成的剝離劑層賦予剝離性的結(jié)構(gòu)，所述第二結(jié)構(gòu)在所述聚合物的主鏈...