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        日產化學株式會社專利技術

        日產化學株式會社共有1014項專利

        • 本發明提供即使在由光取向法進行的取向處理中的光照射量少的情況下,也能使液晶取向膜面內的液晶的扭轉角的偏差(不均勻性)變小的液晶取向劑、液晶取向膜以及液晶顯示元件。液晶取向劑含有聚合物(A):選自由具有源自四羧酸衍生物的結構單元和源自二胺...
        • 本發明得到一種以高的水平抑制AC殘像并且減少起因于背光的電荷蓄積、閃爍的液晶取向膜。液晶取向劑含有以下的聚合物(A)和聚合物(B)。聚合物(A)選自由具有式(A1)的聚酰亞胺前體和作為該聚酰亞胺前體的酰亞胺化物的聚酰亞胺構成的組中。聚合...
        • 提供含有有機酸的在含氮有機溶劑中分散的二氧化硅溶膠、包含該二氧化硅溶膠和含氮聚合物的絕緣性樹脂組合物。二氧化硅溶膠,其為具有5~100nm的平均一次粒徑的二氧化硅粒子在含氮有機溶劑中分散的二氧化硅溶膠,在二氧化硅溶膠中以80~1500p...
        • 一種抗蝕劑下層膜形成用組合物,其包含:具有有機硼酸結構的聚合物(A)、和溶劑(B)。
        • 一種剝離劑組合物或粘接劑組合物,其是光照射剝離用的剝離劑組合物或光照射剝離用的粘接劑組合物,所述剝離劑組合物或粘接劑組合物含有:具有與芳香族環直接鍵合的羥基和與芳香族環直接鍵合的羧基中的至少任意基團的酚醛清漆樹脂、含硅氧烷骨架的環氧樹脂...
        • 作為形成波長轉換效率和耐久性優異的波長轉換膜的波長轉換膜形成用組合物,提供含有(A)由式(1)表示的熒光體和(B)粘結劑的波長轉換膜形成用組合物。(Ar1為可具有取代基的芳環或可具有取代基的雜芳環,Ar2為二價的π共軛單元,R1為氫原子...
        • 本發明提供一種即使在利用光取向法的取向處理中的光照射量少的情況下,也抑制AC殘像的液晶取向膜。此外,提供一種能減小在液晶取向膜面內的液晶的扭曲角的不均(不均勻性)的液晶取向膜。一種液晶取向劑,其含有選自由使用四羧酸成分和二胺成分得到的聚...
        • 一種用于去除異物的涂布膜形成用組合物,其包含聚合物及溶劑,所述組合物能夠形成能通過去除液去除的涂布膜,所述聚合物為包含下述式(1)所示結構的聚合物。[式(1)中,R<supgt;1</supgt;表示氫原子、能夠通過堿進行脫...
        • 一種抗蝕劑下層膜形成用組合物,包含聚合物(A)、具有疏水性取代基的化合物(B)和溶劑(C)。
        • 本發明提供一種液晶取向劑、下述液晶取向膜以及使用了下述液晶取向膜的液晶顯示元件,所述液晶取向劑能得到以比以往高的水平抑制AC殘像的液晶取向膜。一種液晶取向劑,其特征在于,含有選自由具有由下述式(1)表示的重復單元(a1)的聚酰亞胺前體和...
        • 本發明提供一種液晶取向劑、由該液晶取向劑得到的液晶取向膜以及具備該液晶取向膜的高性能的液晶顯示元件及其所用的聚合物和二胺,所述液晶取向劑使能得到液晶取向膜面內的液晶的扭轉角度的偏差(不均勻性)小的液晶取向膜的光照射量的范圍擴大,并且用于...
        • 一種耐半導體用濕蝕刻液的保護膜形成用組合物,其包含:成分(A):膜形成成分;成分(B):三唑化合物(B?1)、四唑化合物(B?2)、具有2個以上酚性羥基的化合物(B?3)、和具有2個以上非酚性羥基的化合物(B?4)中的至少任一者;和成分...
        • 本發明提供一種液晶取向劑、由該液晶取向劑得到的液晶取向膜以及具備該液晶取向膜的高性能的液晶顯示元件及其所用的聚合物和二胺,所述液晶取向劑使能得到液晶取向膜面內的液晶的扭轉角度的偏差(不均勻性)小的液晶取向膜的光照射量的范圍擴大,并且用于...
        • 一種玻璃表面處理膜形成用組合物,其含有導電性物質和溶劑,所述玻璃表面處理膜形成用組合物被用于通過靜電吸附方式來保持玻璃基材。
        • 提供即使使用含有氮原子的基板也不損害抗蝕劑的分辨率,在抗蝕劑膜形成后經過長時間后進行顯影的情況下也可以獲得良好的抗蝕劑形狀的、適合于形成抗蝕劑下層膜的涂布劑組合物。包含酚醛清漆樹脂和溶劑的用于含有氮原子的基板的涂布劑組合物,該酚醛清漆樹...
        • 本發明涉及半導體基板的清洗方法、經加工的半導體基板的制造方法以及剝離和溶解用組合物。一種半導體基板的清洗方法,其特征在于,包括使用剝離和溶解用組合物來剝離并溶解半導體基板上的粘接層的工序,所述剝離和溶解用組合物包含:[I]成分:季銨鹽、...
        • 提供對主要作為有機溶劑的抗蝕劑溶劑、作為堿性水溶液的抗蝕劑顯影液顯示良好的耐性、并且對濕蝕刻藥液顯示良好的除去性(溶解性)的抗蝕劑下層膜。抗蝕劑下層膜形成用組合物,含有:選自具有下述式(1)所示的部分結構的化合物和具有所述式(1)所示的...
        • 采用在包含二亞芐基丙酮的鈀0價絡合物的催化劑、由下述式(L)表示的配體和堿的存在下使氟化芳族伯胺化合物與氯化、溴化或碘化芳族烴或者擬鹵化芳族烴反應的氟化芳族仲胺化合物的制造方法,在沒有使用特殊的催化劑的情況下使氟化芳族胺化合物與氯化、溴...
        • 本發明以提供進一步改善了抗蝕劑下層膜的固化性、耐熱性、耐蝕刻性、平坦化性、埋入性等特性的抗蝕劑下層膜形成用組合物作為目的。解決手段是包含酚醛清漆樹脂和溶劑的抗蝕劑下層膜形成用組合物,該酚醛清漆樹脂具有:具有至少2個氨基的單元結構A,該單...
        • 作為通過用于有機光電轉換元件從而可大幅改善得到的元件的暗電流特性的電荷傳輸性組合物,提供下述電荷傳輸性組合物,其為用于形成有機光電轉換元件中的電荷傳輸性薄膜的電荷傳輸性組合物,其包含電荷傳輸性物質和有機溶劑,所述電荷傳輸性物質包含選自由...
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