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        日產(chǎn)化學(xué)株式會(huì)社專(zhuān)利技術(shù)

        日產(chǎn)化學(xué)株式會(huì)社共有1014項(xiàng)專(zhuān)利

        • 一種含硅抗蝕劑下層膜形成用組合物,其含有[A]成分:聚硅氧烷,以及[C]成分:溶劑,所述聚硅氧烷包含來(lái)自下述式(A?1)所示的水解性硅烷(A)的結(jié)構(gòu)單元。#imgabs0#(式(A?1)中,a和b各自獨(dú)立地表示1~3的整數(shù)。c表示0~2...
        • 本發(fā)明的課題是提供使二氧化硅粒子分散于用于與聚酰亞胺、聚酰胺系的極性樹(shù)脂相容性良好地混合的含氮溶劑的硅溶膠、將這些硅溶膠和樹(shù)脂混配而得的絕緣性樹(shù)脂組合物、和長(zhǎng)時(shí)間持續(xù)高的絕緣壽命的絕緣被覆導(dǎo)線。解決手段是一種硅溶膠,是具有5~100nm...
        • 一種層疊體,其特征在于,用于使用光刻或電子束光刻技術(shù)來(lái)制造光學(xué)衍射體,所述光學(xué)衍射體具有:基板;以及光學(xué)衍射光柵層,其配置在所述基板上且具有多個(gè)槽,所述層疊體具有:所述基板;前體層,其配置在所述基板上,通過(guò)形成所述多個(gè)槽而成為所述光學(xué)衍...
        • 提供不發(fā)生與被形成在上層的抗蝕劑膜的混合,能夠抑制抗蝕劑圖案形成時(shí)的LWR[線寬粗糙度,線寬的波動(dòng)(粗糙度)]的惡化的抗蝕劑下層膜形成用組合物。包含(A)酚系抗氧化劑,上述酚系抗氧化劑的芳環(huán)上的酚性羥基的鄰位或?qū)ξ坏奶荚又械闹辽僖粋€(gè)...
        • 本發(fā)明提供電荷傳輸性組合物,其包含:含有式(1)的聚噻吩衍生物或其胺加成物的電荷傳輸性物質(zhì)、選自含有氟烷基的硅烷等的有機(jī)硅烷化合物、金屬氧化物納米粒子和有機(jī)溶劑。(R1和R2相互獨(dú)立地為氫原子、碳數(shù)1~40的烷氧基、?O?[Z?O]p?...
        • 提供適合用于硬涂、紫外線遮蔽層、防反射膜、及衍射光學(xué)元件材料等的光學(xué)薄膜,耐光性、透明性及壓印等的加工性?xún)?yōu)異,且具有高折射率的核殼型金屬氧化物粒子,及其制造方法。一種核殼型金屬氧化物粒子(C),其中,用包含鈦氧化物的金屬氧化物(A2)來(lái)...
        • 本發(fā)明提供一種液晶顯示元件及其制造方法,即使在將取向膜的一方設(shè)為光取向處理、將另一方設(shè)為摩擦取向處理的情況下,液晶取向膜面內(nèi)的液晶分子的扭轉(zhuǎn)角度的偏差(不均勻性)也小,且能抑制AC殘影。一種液晶顯示元件,其具備夾持液晶層而對(duì)置配置的第一...
        • 一種抗蝕劑下層膜形成用組合物,其含有第一成分和溶劑,所述第一成分具有芳香族環(huán)、通過(guò)單鍵直接鍵合于所述芳香族環(huán)的至少1個(gè)氧原子、以及酚性羥基以外的至少1個(gè)羥基,所述溶劑包含相對(duì)于所述溶劑為50質(zhì)量%以上的水。
        • 本發(fā)明提供一種單層相位差材料,其由通過(guò)簡(jiǎn)單的工藝能夠制作在轉(zhuǎn)印時(shí)不產(chǎn)生裂紋的單層相位差材料的聚合物組合物得到,所述聚合物組合物含有(A)聚合物,其具有:具有光反應(yīng)性部位的側(cè)鏈、具有非光反應(yīng)氫鍵性官能團(tuán)的側(cè)鏈以及具有自交聯(lián)性部位的側(cè)鏈;以...
        • 一種粘接劑組合物,其通過(guò)氫化硅烷化反應(yīng)而固化,所述粘接劑組合物含有鉑族金屬系催化劑以及下述式(1)所示的化合物。(式(1)中,R1和R2各自獨(dú)立地表示一價(jià)基團(tuán)。)#imgabs0#
        • 一種粘接劑組合物,其中,含有兩種以上剝離劑成分。
        • 本發(fā)明提供一種能夠形成抗蝕劑下層膜的含硅抗蝕劑下層膜形成用組合物、由該含硅抗蝕劑下層膜形成用組合物形成的保存穩(wěn)定性?xún)?yōu)異且對(duì)藥液顯示出優(yōu)異的可溶性的含硅抗蝕劑下層膜、具備該含硅抗蝕劑下層膜的層疊體、以及使用該含硅抗蝕劑下層膜形成用組合物的...
        • 提供一種電極形成用組合物,其作為通過(guò)簡(jiǎn)便的方法抑制增稠和凝膠化,保存穩(wěn)定性提高,并且能進(jìn)行固體成分的高濃度化的電極形成用組合物,包含穩(wěn)定化成分、正極活性物質(zhì)、粘合劑以及溶劑,上述穩(wěn)定化成分為如下物質(zhì):包含如下含雜環(huán)的化合物(第一成分)和...
        • 提供一種電極形成用組合物,其通過(guò)簡(jiǎn)便的方法抑制增稠和凝膠化,保存穩(wěn)定性提高,并且能進(jìn)行固體成分的高濃度化。例如一種電極形成用組合物,其包含正極活性物質(zhì)、粘合劑、溶劑以及含雜環(huán)的化合物,上述含雜環(huán)的化合物具有含氮的五元環(huán),并且該五元環(huán)不含...
        • 一種粘接劑組合物,其是用于形成層疊體的粘接劑層的固化性的粘接劑組合物,所述層疊體具有:半導(dǎo)體基板或電子器件層;支承基板;以及所述粘接劑層,設(shè)于所述半導(dǎo)體基板或所述電子器件層與所述支承基板之間,所述粘接劑組合物含有:不具有硅氧烷鍵且具有碳...
        • 本發(fā)明涉及液晶取向劑、其制造方法、液晶取向膜和液晶表示元件。提供:即使減少基于光取向法的取向處理中的光照射量、IPS驅(qū)動(dòng)方式、FFS驅(qū)動(dòng)方式的液晶表示元件中也得到良好的殘影特性的液晶取向劑、其制造方法、由其得到的液晶取向膜、和具備其的液...
        • 本發(fā)明提供一種聚合物組合物,其為通過(guò)簡(jiǎn)單的工藝能夠制作在轉(zhuǎn)印時(shí)不產(chǎn)生裂紋的單層相位差材料的包含聚合物的組合物,所述聚合物組合物含有(A)聚合物,其具有:具有光反應(yīng)性部位的側(cè)鏈、具有非光反應(yīng)氫鍵性官能團(tuán)的側(cè)鏈以及式(d)所示的側(cè)鏈的(B)...
        • 提供一種剝離劑組合物,其用于形成在如下層疊體中的如下剝離劑層,所述層疊體在半導(dǎo)體基板或電子器件層的加工時(shí),能將支承基板與該半導(dǎo)體基板或該電子器件層牢固地粘接,并且在基板加工后,能通過(guò)光照射將支承基板與該半導(dǎo)體基板或該電子器件層容易地分離...
        • 本發(fā)明提供使液晶的扭轉(zhuǎn)角的偏差變小、抑制閃變的發(fā)生且具有高透射率的液晶取向劑、液晶取向膜以及液晶顯示元件。液晶取向劑含有:聚合物(A):具有包含式(1T<subgt;a</subgt;)所示的結(jié)構(gòu)單元的源自四羧酸衍生物的結(jié)構(gòu)...
        • 作為形成具有電荷傳輸性、同時(shí)平坦性?xún)?yōu)異的膜的電荷傳輸性墨組合物,提供包含金屬氧化物納米粒子、pH10下的cLogD為?1.35~?0.1的醇胺化合物、和有機(jī)溶劑的電荷傳輸性墨組合物。
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