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        深圳市新凱來工業機器有限公司專利技術

        深圳市新凱來工業機器有限公司共有298項專利

        • 本申請實施例公開了一種量測設備的圖像采集系統和方法,上述系統包括:第一離焦確定模組,用于確定目標物的第一離焦量;第二離焦確定模組,用于確定目標物的第二離焦量;第一移動控制模組,用于根據第一離焦量控制量測物鏡與目標物在第一方向上相對移動以...
        • 本申請涉及磁集成器件和變換器,磁集成器件包括第一磁芯、第二磁芯、第一磁柱至第四磁柱、兩個第一繞組及兩個第二繞組;第一磁芯和第二磁芯間隔設置,第一磁柱至第四磁柱均固定連接于第一磁芯和第二磁芯之間;第一磁柱的橫截面的面積與第二磁柱的橫截面的...
        • 本申請實施方式提供一種用于夾持工件的夾持裝置、承載設備及半導體檢測系統。夾持裝置包括氣浮卡盤、自鎖凸輪及夾爪,自鎖凸輪安裝于氣浮卡盤的一側,氣浮卡盤背離自鎖凸輪的一側用于吹出氣體以使工件懸浮在氣浮卡盤背離自鎖凸輪一側的上方。自鎖凸輪設有...
        • 本申請實施例公開了一種耦合器及電子設備,該耦合器可包括:接地層、多個介質層、以及相互耦合的主傳輸線和耦合線。其中,主傳輸線包括層疊設置的多條第一信號線,如此設置,可以將主傳輸線設置為多層信號線結構,保證主傳輸線的通流與阻抗性能,提高耦合...
        • 一種調節組件,涉及精密運動臺技術領域,其中,調節組件包括沿第一方向依次設置的連接架、底座、第一滑塊和第二滑塊;調節組件還包括第一滑動機構和第二滑動機構,第一滑動機構連接底座和第二滑塊,底座和第二滑塊通過第一滑動機構在第二方向產生相對位移...
        • 本申請提供一種調平裝置、調平設備和調平設備的調平方法,可以實現高效調平。調平裝置包括底板、多個柔性調平件、承載件和多個調平緊固件,底板具有第一面,多個柔性調平件均安裝于第一面,每一柔性調平件可沿柔性調平件的高度方向發生彈性變形,每一柔性...
        • 本申請公開了一種晶圓對焦系統,包括:追焦傳感器、對焦控制器、光電采集板、精調電機和電機控制器;對焦控制器用于從追焦傳感器獲取目標晶圓的離焦高度模擬信號以生成并輸出預測合焦位置模擬信號至電機控制器;電機控制器用于基于預測合焦位置模擬信號控...
        • 本申請提供了一種調平裝置及機械設備,調平裝置包括底座、被調板和調平組件。沿第一方向,底座與被調板間隔相對,調平組件設置于底座與被調板之間。調平組件包括驅動件和連接件,沿第一方向,驅動件的一端連接底座,驅動件的另一端連接被調板,連接件的一...
        • 本申請涉及光學設備技術領域,尤其涉及到一種反射結構、熱輻射單元及加熱裝置。反射結構具有容納槽,容納槽具有第一側壁、第二側壁和與所述第一側壁和所述第二側壁連接的底壁,所述第一側壁包括第一拋物面,所述第二側壁包括第二拋物面,所述底壁包括第三...
        • 本申請實施例提供一種深紫外物鏡及光學系統。所述深紫外物鏡包括前組透鏡及后組透鏡;所述前組透鏡靠近物面設置,所述前組透鏡具正屈光度;所述后組透鏡具負屈光度。所述前組透鏡包括折射透鏡與至少一個衍射光學元件,以消除色差。
        • 本申請提供一種光束變換裝置及光學加工設備,光束變換裝置用于對第一光束進行光束變換,其中,光束變換裝置包括沿第一光束光軸設置的衍射光學模組和折射光學模組,上述衍射光學模組和折射光學模組用于共同對第一光束進行光束變換,輸出第二光束,其中,第...
        • 本申請實施例提供一種具有偏振選擇功能的偏振分束裝置,該偏振分束裝置包括波片和偏振分束鏡,波片的出射端面與偏振分束鏡的入射端面膠合,此時波片與偏振分束鏡之間沒有間隙。其中,波片用于對入射光的偏振方向進行調整,并向偏振分束鏡輸出線偏振光。進...
        • 本申請涉及工藝處理設備技術領域,尤其涉及到一種進氣分流器、吹掃結構及工藝腔室。該進氣分流器包括分流器本體;分流器本體具有第一端面、第二端面以及位于第一端面和第二端面之間的側面;分流器本體設置有換向通道和導流通道,換向通道連通于側面與第一...
        • 本申請涉及工藝處理技術領域,特別涉及一種工藝腔室及工藝處理設備。該工藝腔室包括腔體和載盤,腔體具有沿第一方向分布的反應腔和支撐腔,載盤可轉動地設置于腔體內,載盤的轉動中心平行于第一方向。腔體設置有基板裝載通道、氣體導入通道以及氣體導出通...
        • 本申請實施例提供了一種物鏡鏡頭和光學設備。光學設備包括光源和物鏡鏡頭。物鏡鏡頭包括前鏡組和后鏡組,從物側到像側,前鏡組與后鏡組依次排布;前鏡組具有正光焦度,后鏡組具有負光焦度;前鏡組包括多個第一透鏡,多個第一透鏡中的至少一個第一透鏡具有...
        • 本申請涉及熱處理技術領域,尤其涉及到一種加熱裝置及工藝處理設備。加熱裝置可用于對待加熱器件進行加熱,待加熱器件放置在可繞中心軸旋轉的支撐部件上,加熱裝置包括多組周向熱輻射單元,多組周向熱輻射單元由中心軸向所述中心軸外周擴散,每組周向熱輻...
        • 成像裝置及成像系統,成像裝置包括:照明模塊、成像模塊、光路切換模塊和多個物鏡均收容在外殼所封閉包圍的內腔中,多個物鏡分別嵌設在外殼上并穿設外殼,多個物鏡的倍率均不同;照明模塊用于發射照明光束,光路切換模塊用于將照明光束切換到不同的物鏡上...
        • 本申請提供了一種半導體工藝腔室和半導體工藝設備,半導體工藝腔室包括腔室和氣體注射器;腔室的腔壁圍成內腔,腔壁設有第一通道,第一通道具有第一開口,第一通道通過第一開口與內腔連通,第一通道的表面包括第一表面,第一表面朝向第一開口;氣體注射器...
        • 本申請實施例公開了一種射頻功率合成器、射頻電源及電子設備,該射頻功率合成器包括:多個輸入端口、多個傳輸通道、輸出端口以及隔離電路。多個傳輸通道的第一端口與多個輸入端口一一對應連接,多個傳輸通道的第二端口與輸出端口連接,多個傳輸通道中相鄰...
        • 本申請涉及分流板、分流組件、分流裝置及電子設備。分流板包括進口、N個出口及第一流道至第N流道,進口位于分流板的一側,N個出口位于分流板的另一側,第一流道至第N流道的一端均連通進口,第一流道至第N流道的另一端一一對應地連通N個出口,第一流...
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