本申請提供一種半導體器件及其制備方法、電子設備，可以降低柵極和漏極發生短路的風險，簡化半導體器件制作工藝中刻蝕和光刻的難度。半導體器件的制備方法包括：提供基體，基體包括間隔設置的第一柵極和第二柵極，以及位于第一柵極和第二柵極之間的柵間介...

本申請實施例公開了一種載臺調平裝置、載臺的調平方法和晶圓載臺裝置，載臺調平裝置包括控制器、電機承載座和電機，電機中的第一電機、第二電機和第三電機的一側用于安裝載臺，第一電機、第二電機和第三電機的另一側固定在電機承載座上方，且三個電機不共...

本申請提供一種半導體器件、半導體器件的制備方法和電子設備，用于使半導體器件中晶體管的布局更加緊湊，節省單元面積的占用，提高半導體器件的集成密度。半導體器件包括讀取晶體管和寫入晶體管。沿讀取溝道層的厚度方向上，讀取柵極和讀取源漏極分別位于...

本申請公開一種光致污染防護系統，包括密封罩、供氣組件、分流組件，每個密封罩密封包圍一個或多個元器件，一個密封罩內的元器件處于同一潔凈等級；密封罩設有進氣通道，密封罩之間設有連接通道供光線經過以及氣體通過；供氣組件提供潔凈氣體；分流組件用...

本申請提供一種氣體采樣系統及方法，該氣體采樣系統包括氣體流量補償模塊、采樣分析裝置、第一管路、第二管路、第三管路和三通節點，其中，氣體流量補償模塊通過第一管路連接三通節點的第一端口，三通節點的第二端口通過第二管路連接被測氣體管路，采樣分...

本申請提供一種激光光源的功率調節方法、功率調節裝置及激光維持等離子體LSP光源，該方法包括：獲取LSP光源的第一功率信號，第一功率信號用于表征LSP光源的輸出功率隨時間的變化情況；對第一功率信號進行處理，得到第一抖動信號，第一抖動信號表...

本申請提供一種檢測設備、半導體系統及半導體設備的檢測方法，涉及半導體技術領域，用于解決半導體設備處理后的晶圓的合格率較低的問題。檢測設備用于檢測半導體設備的反應腔的內部狀態。檢測設備包括驅動結構和控制器。驅動結構與一根或者多根探針的固定...

本申請提供一種控制變量優化方法、控制變量優化裝置及存儲介質，涉及制造控制領域，該方法包括：獲取被控對象的當前狀態參數，當前狀態參數用于表征被控對象的當前狀態；基于第一變量矩陣確定控制輸入序列；第一變量矩陣是第二變量矩陣經降維得到的，第二...

本申請提供一種射頻裝置、反射系數的確定方法以及通信設備，涉及射頻技術領域，用能夠在不不影響等離子體狀態的情況下確定反射系數，提升射頻裝置的反射系數確定方法的抗干擾特性。該方法應用于射頻裝置，包括：發射通道根據第一信號和探測序列輸出發射信...

本申請涉及存儲設備技術領域，公開了一種4F2存儲單元、存儲器及4F2存儲單元的制備方法，該4F2存儲單元，包括：襯底；在所述襯底一側表面沿厚度方向外延生長的半導體材料柱；覆蓋所述半導體材料柱表面的中間介質層；覆蓋所述中間介質層遠離所述襯...

本申請提供了一種工藝配方的控制參數的補償方法、裝置、系統、存儲介質及程序產品，涉及半導體技術領域，能夠精準地對半導體材料進行快速熱處理。該方法包括：執行工藝配方執行步驟：基于工藝配方的控制參數對目標產品進行加工，并獲取目標產品在加工過程...

本申請公開一種勻流裝置，涉及半導體加工技術領域，應用于量測腔室，包括第一導流部和第二導流部，第一導流部具有承接氣流的第一導流面；第二導流部連接于第一導流面的下邊緣區域，第二導流部具有第二導流面，通過第一導流部中的第一導流面與第二導流部中...

本申請提供了一種樣品測試方法、裝置、系統、存儲介質及計算機程序產品，涉及半導體技術領域，能夠提高能譜采集的效率。該方法包括：根據待測樣品對應的采集參數對待測樣品進行能譜采集，獲取第一能譜數據；在第一能譜數據超過數據采集范圍的情況下，對采...

本申請提供了種用于半導體工藝設備的噴淋頭和半導體工藝裝備，涉及半導體技術領域，旨在改善工藝氣體在腔室內壁沉積的問題。用于半導體工藝設備的噴淋頭包括：噴淋頭本體，噴淋頭本體上設置有至少一個第一進氣口和多個第一出氣口，第一出氣口用于輸送吹掃...

本申請提供了一種管路連接組件、流體傳輸裝置及液冷系統，包括第一接頭、接頭固定件和緊定件，接頭固定件套設于第一接頭外，接頭固定件上設有第一通孔，緊定件貫穿第一通孔并抵接于第一接頭，在本申請實施例中，由于緊定件通過接頭固定件內的第一通孔抵接...

本申請實施例提供一種版叉結構、掩模版傳輸裝置及半導體設備，該版叉結構包括：版叉主體以及多個夾爪；版叉主體包括多個橫梁，多個夾爪設置于多個橫梁上；多個夾爪用于共同取放和承載掩模版容器；版叉主體內設置有移位驅動器，每個橫梁內設置有定位導軌和...

本申請實施例提供一種版叉結構、掩模版傳輸裝置及半導體設備。該版叉結構包括：版叉主體，版叉主體形成容納掩模版的空間；兩個夾爪組，兩個夾爪組均與版叉主體轉動連接；位置調節機構，位置調節機構設置于版叉主體，用于驅動兩個夾爪組相對于版叉主體旋轉...

本申請提供了一種搖擺裝置、多軸運動機構及電子裝備。搖擺裝置包括支撐組件，支撐組件包括間隔設置的第一支撐件和第二支撐件；搖擺組件，可活動地連接第一支撐件和第二支撐件；驅動組件，設置于第一支撐件和第二支撐件的至少一個處；驅動組件連接搖擺組件...

本申請公開了一種中長鏡頭的調節裝置及光學量檢測設備，涉及光學設備技術領域，為了解決現有的單側鎖緊方式導致的穩定性不足的問題，該調節裝置包括：調節模塊用于實現鏡頭的俯仰和偏擺位姿調節；鎖緊模塊用于固定位姿調節到位后的鏡頭，鎖緊模塊包括用于...

本申請涉及一種反應裝置及處理設備，包括腔體、進氣管和第一阻擋件，腔體內設有反應室、進氣通道和進氣孔，反應室與進氣通道和進氣管均連通，進氣孔與進氣通道與進氣管均連通，進氣管至少部分設置于進氣通道內，進氣管與進氣通道之間具有間隙，第一阻擋件...