本申請實施例提供了一種照明光路及光學檢測系統，用于簡化光路，提升光路的穩定性。本申請實施例中的照明光路包括：光源，用于發射預設波段的光束；控制器，用于輸出控制電信號；第一電控光束切換組件，用于接收所述控制電信號，并根據所述控制電信號，將...

本申請公開了一種檢測方法、裝置、設備及存儲介質，用于晶圓鍵合工藝中的氣泡缺陷檢測，可應用于光學技術領域，該方法包括：獲取待測鍵合晶圓的干涉條紋圖；基于干涉條紋圖確定與待測鍵合晶圓對應的三維形貌圖；基于干涉條紋圖確定待測鍵合晶圓中是否存在...

本申請公開一種確定對位區域的方法、裝置、設備和存儲介質，方法包括：在待測樣品的樣品圖像中確定出第一區域；處理每一第一區域的像素，得到包括第一區域中各像素的梯度方向的梯度分布信息；根據第一區域對應的梯度分布信息，在多個第一區域中篩選出多個...

本發明涉及光束處理技術領域，尤其涉及一種光束功率控制裝置，包括：沿光束的傳輸方向排布的連續調節組件和定倍調節組件，所述連續調節組件可移入或移出所述光束的傳輸路徑，所述定倍調節組件可移入或移出所述光束的傳輸路徑；所述連續調節組件位于所述光...

本申請公開了一種照明模式切換方法、檢測方法、檢測系統及存儲介質，屬于半導體檢測技術領域。所述方法包括：響應于第一信號，控制照明模式切換為第一照明模式，以對載物臺上所承載的參考物進行均勻照明，第一信號用于指示檢測系統需要進行尋焦；響應于第...

本申請公開了一種尋焦方法、半導體的檢測方法、檢測設備及存儲介質，屬于半導體檢測技術領域。所述方法包括：控制承載有參考物與待測物的載物臺與物鏡在垂直方向相對運動，使得載物臺上所承載的參考物與物鏡在垂直方向上依次處于多個不同的高度距離；其中...

一種X射線散射量測設備，包括準直單色器、監測調節系統、X射線源和監測探測器；準直單色器接收X射線源發射的X射線并從準直單色器輸出主路X射線束和外圍X射線束；監測探測器探測外圍X射線束以獲取外圍X射線束的強度信息；監測調節系統處理強度信息...

本發明涉及半導體檢測技術領域，尤其涉及一種基于特征空間的形貌參數提取方法、裝置、介質及電子設備，方法主要包括：對待測納米結構的實測散射圖譜進行基于特征空間的形貌參數提取，得到待測納米結構的第一待測參數；基于待測納米結構的參數模型，確定待...

本申請提供的測量設備，基于雙斐索干涉儀的光路設計，在第一PBS分光棱鏡和第一保護玻璃之間設置第三四分之一波片，在第二PBS分光棱鏡和第二保護玻璃之間設置第四四分之一波片，第一保護玻璃將入射的部分光束反射至第三四分之一波片，再經第一PBS...

本申請提供的晶圓面型測量設備及測量方法，在所述第一探測器表面覆蓋第一保護玻璃，經所述第一保護玻璃反射的部分所述第一干涉光束經所述第一分光鏡后成像到所述第三探測器上，監控所述第三探測器的成像信息并調整所述待測件的面型測量過程，有效地利用了...

本發明涉及一種電子束阻斷器、靜電透鏡及掃描電鏡，電子束阻斷器包括：具有中心通孔的基體，所述基體沿中心通孔的軸線分為左瓣電極和右瓣電極，所述左瓣電極與右瓣電極之間通過絕緣層隔離；所述左瓣電極和所述右瓣電極用以施加不同電壓以產生橫向偏轉電場...

本發明涉及半導體檢測技術領域，尤其涉及一種形貌參數分步擬合方法、裝置、存儲介質及電子設備，方法包括：利用X射線以不同的入射角照射待測納米結構；利用探測器接收經過待測納米結構散射的X射線，得到X射線散射圖；對不同入射角下的X射線散射圖中的...

一種X射線散射量測設備，包括X射線源、監測探測器、監測調節系統和真空準直系統，真空準直系統包括第一狹縫；X射線源發射的X射線照射第一狹縫時，X射線中被第一狹縫阻擋的部分形成第一散射X射線；監測探測器用于探測第一散射X射線并輸出強度信息；...

一種調節裝置及光學檢測設備，其中，調節裝置包括平移調節組件和具有導向結構的承載組件，平移調節組件包括直線電機、柔性轉接件和第一光學元件，第一光學元件固定于柔性轉接件；柔性轉接件連接于直線電機的動子件與導向結構之間，以引導動子件沿與調節裝...

本申請提供的一種晶圓缺陷檢測裝置及控制方法，通過調節明場探測器和/或暗場探測器的位置來精準的匹配成像倍率改變下的對應視場變化，實現檢測精度可調的同時，能夠滿足暗場成像和明場成像對視野完整性的要求，達到覆蓋任一物鏡倍率下明暗場成像視野的目...

本申請提供的一種晶圓明暗場缺陷檢測裝置，設置有多個倍率的物鏡，可根據檢測精度的需求而靈活切換這些物鏡，實現高檢測精度低檢測速度與低檢測精度高檢測速度的切換；且在暗場光源端精確配置暗場照明光束，使暗場照明光斑覆蓋所需多個物鏡倍率下暗場探測...

本申請提供了一種半導體檢測裝置及其控制方法，設置多個倍率的物鏡，可根據檢測精度的需求而靈活切換這些物鏡，實現高檢測精度低檢測速度與低檢測精度高檢測速度的切換；且通過移動暗場狹縫的位置調控暗場照明光斑的分布，使暗場照明光斑匹配任一物鏡倍率...

本申請公開了一種形貌參數的提取方法、裝置、設備及可讀存儲介質，可應用于半導體技術領域，該方法包括：獲取待測納米結構的實測散射圖譜；確定與所述待測納米結構對應的待測形貌參數；基于所述待測形貌參數，確定與所述待測納米結構對應的理論散射圖譜；...

本發明涉及光學檢測技術領域，尤其涉及一種光學檢測裝置，包括：沿光軸方向依次排布的物鏡、檢偏組件、管鏡組件以及相機；所述管鏡組件包括多個管鏡，所述多個管鏡沿垂直于所述光軸的方向排布，多個所述管鏡中的一個管鏡設置在所述物鏡與所述相機之間的光...

本申請提供的大尺寸晶圓形貌測量裝置及測量方法，設置波長可在第一波長和第二波長間切換的光源且第一波長大于第二波長，控制單元可根據被測晶圓的翹曲量或翹曲范圍控制光源發射第一波長光束和/或第二波長光束，以確定晶圓表面形貌數據，提高大尺寸晶圓形...