本申請實施例公開了檢測系統，用于消除泵浦光噪聲的影響，對樣品進行準確檢測。本申請實施例方法包括：光源組件，用于發出探測光以及泵浦光；第一分光組件，用于接收泵浦光并將泵浦光分為泵浦信號光以及泵浦參考光，泵浦信號光用于誘發樣品的光學特性變化...

本申請公開了一種光學裝置傾斜測試的系統及方法，可應用于光學技術領域，其中系統包括：測試組件，測試組件包括自準直儀和導向組件；自準直儀用于發射初始光束和采集反射光束；導向組件設于初始光束的光路上，用于引導初始光束以特定角度入射至待測物形成...

一種成像補償方法、成像補償裝置以及存儲介質，方法包括沿第一預設方向，獲取待測件的至少一幅檢測圖像，第一預設方向平行于掃描工作臺的掃描坐標系中的第一坐標軸；待測件的表面對應具有第一坐標系，待測件的表面具有多個沿第一坐標系的第三坐標軸陣列分...

本申請公開了一種干涉系統，該干涉系統包括基準座、測量物鏡、分光棱鏡、第一調節組件、參考物鏡、第二調節組件、反射鏡安裝座、參考反射鏡和第三調節組件。測量物鏡連接于基準座，分光棱鏡活動設置于基準座內。第二調節組件活動設置于基準座，第二調節組...

本申請公開了一種干涉系統，該干涉系統包括基準座、測量物鏡、分光棱鏡、第一調節組件、參考物鏡、第二調節組件、反射鏡安裝座、參考反射鏡和第三調節組件。第二調節組件包括物鏡轉動調節件，參考物鏡連接于物鏡轉動調節件，物鏡轉動調節件具有至少兩個調...

本發明涉及零部件位移的調節，具體涉及一種位移調節裝置及可調節承載系統。位移調節裝置包括：固定件和被調節件；以及驅動件，驅動件包括桿體部和驅動部，驅動部支撐在被調節件遠離固定件的一側，驅動部用于對被調節件施加驅動力以相對固定件進行位移；桿...

本申請提供了一種缺陷來源分析方法、裝置、設備和介質，所述缺陷來源分析方法包括：在需要對當前工藝層中的目標缺陷進行缺陷來源分析時，先根據目標缺陷的位置數據和誤差容忍度的大小確定疑似缺陷區域，再確定待匹配前層缺陷中是否存在落入所述疑似缺陷區...

本技術公開光學器件調整裝置，包括光學器件和調整單元，光學器件具有出射光束的光軸，光軸被配置為坐標系的x方向，調整單元包括調整板、第一調整組件和第二調整組件，光學器件活動設于調整板的上板面，第一調整組件和第二調整組件均設置于調整板；第一調...

本技術公開一種壓邊裝置，包括固定架、第一升降驅動件、第二升降驅動件、第三升降驅動件、第一壓邊件、第二壓邊件、第三壓邊件和控制器，控制器與第一升降驅動件、第二升降驅動件和第三升降驅動件信號連接，控制器被配置為控制第一升降驅動件驅動第一壓邊...

一種檢測方法、系統、終端設備以及存儲介質，檢測方法包括：對待測件的第一表面進行照明；獲取第一表面的第一圖像、第二表面的第二圖像以及側面的第三信號；第一表面與第二表面為相對的兩個表面；第三信號為待測件的側面反射的散射光產生的光信號；根據第...

本發明涉及檢測技術領域，具體涉及裝夾裝置、檢測設備、裝夾方法及檢測方法。裝夾裝置的承載轉盤用于帶動待測物轉動，在被測物安裝在承載轉盤上時，通過裝夾裝置的多個夾爪能夠使待測物相對承載轉盤運動，對被測物的位置進行調節，直到待測物的中心與承載...

一種圖像處理方法及系統、設備和存儲介質，圖像對處理方法，其中，圖像處理方法，包括：獲取待測物的待測圖像和模板圖像，所述待測物包括多個周期性排列的待測單元；根據待測圖像與模板圖像的初始相對位置獲取采樣位置，并對處于采樣位置處的待測圖像和模...

本申請公開了一種操作方法、控制器、執行器及電子設備。在上述的方法中，在控制器獲取操作任務之后，將操作任務發送至執行器，以便執行器執行預設操作，再接收執行器發送的報告消息，判斷報告消息中的運行參數是否符合預設要求，并反饋判斷結果。在此過程...

本發明涉及一種固定裝置及固定裝置使用方法。固定裝置包括：固定座，所述固定座上設有光學元件定位結構，所述光學元件定位結構用于將光學元件定位到所述固定座上；以及吹氣裝置，所述吹氣裝置包括吹氣口，所述吹氣口用于向所述光學元件的光線入射端面吹氣...

本發明涉及壓裝固定裝置。壓裝固定裝置，包括：固定裝置主體，所述固定裝置主體上設有第一腔體，所述第一腔體供光線通過并用于安裝供光線照射的晶體，所述第一腔體的腔體側壁上設有軸向定位結構，所述軸向定位結構用于沿所述第一腔體的延伸方向對所述晶體...

一種檢測裝置，涉及光學檢測設備技術領域，檢測裝置包括：照明光源，被配置為提供第一預設波長范圍的照明光束；對焦光源，被配置為提供第二預設波長范圍的對焦光束；傳輸組件，被配置為接收照明光束以及對焦光束，將第一信息光束與第二信息光束輸出；分光...

本技術公開了一種物鏡傾斜調節裝置，包括：第一固定件、第二固定件、第一調節件和第二調節件，第一調節件和第二調節件沿軸向并排設置，第一固定件、第二固定件、第一調節件和第二調節件均具有避讓成像光的通孔；其中，第一調節件和第二調節件通過傾斜結構...

一種圖像匹配方法、圖像處理方法及系統、設備和存儲介質，其中，圖像對處理方法，包括：對各第一參考位置的第一相似度進行第一擴充處理，獲取多個第二參考位置與第一相似度的第一對應關系，多個第二參考位置中包括各第一參考位置以及位于各第一參考位置之...

本技術公開了一種分揀裝置和處理設備，分揀裝置包括輸送線、第一流盤線、第二流盤線和拾取機構，輸送線的第一端用于與檢測裝置對接，輸送線的第二端用于與覆膜裝置對接，拾取機構用于將輸送線傳送的不良工件分揀至第一流盤線，拾取機構還用于將輸送線傳送...

一種寬帶光譜測量裝置以及檢測設備，寬帶光譜測量裝置包括：第一入射狹縫、第一分光組件、第一光譜模塊以及第二光譜模塊；第一入射狹縫被配置為輸入待測光束，待測光束為復色光束；第一分光組件被配置為將待測光束進行分光，得到第一光束與第二光束；第一...