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        深圳中科飛測科技股份有限公司專利技術(shù)

        深圳中科飛測科技股份有限公司共有979項(xiàng)專利

        • 一種光致發(fā)光檢測系統(tǒng)以及檢測方法,系統(tǒng)包括:光源,被配置為發(fā)射檢測光;光學(xué)整形單元,被配置為對檢測光進(jìn)行整形以產(chǎn)生檢測光斑;檢測光斑用于照射待測件并使待測件上的待測特征光致發(fā)光;光譜儀,被配置為檢測待測特征在檢測光斑的照射下通過光致發(fā)光...
        • 一種用于光學(xué)檢測系統(tǒng)的光路切換裝置,包括:第一離軸反射鏡,被配置為安裝在光源的出光光路上,第二離軸反射鏡,被配置為安裝在光源的出光光路上,且與第一離軸反射鏡所覆蓋的光源的出光光路不重疊。本申請通過兩個(gè)出光光路不重疊的兩個(gè)離軸反射鏡,可以...
        • 本發(fā)明實(shí)施例提供了一種光學(xué)檢測系統(tǒng),用于提升獲取到照明光束中照明光強(qiáng)的準(zhǔn)確性。本發(fā)明實(shí)施例方法包括:照明光學(xué)系統(tǒng),用于發(fā)射照明光束,并將照明光束照射至檢測對象;聚焦光學(xué)系統(tǒng)包括檢測光發(fā)射裝置和調(diào)節(jié)裝置,其中,檢測光發(fā)射裝置用于向檢測對象...
        • 本申請涉及光學(xué)機(jī)械技術(shù)領(lǐng)域,公開了一種適用于工業(yè)相機(jī)的轉(zhuǎn)接裝置,其包括外部轉(zhuǎn)接套筒,用于安裝于工業(yè)相機(jī)的接口,所述接口具有向內(nèi)延伸的裝配空間;調(diào)節(jié)組件,設(shè)置于所述接口的裝配空間中,且與所述外部轉(zhuǎn)接套筒螺紋連接,所述調(diào)節(jié)組件具有光學(xué)通道,...
        • 本發(fā)明實(shí)施例公開了一種金屬膜厚度測量方法、裝置和系統(tǒng),所述金屬膜厚度測量方法包括:根據(jù)具有第一頻率的第一參考信號對泵浦光進(jìn)行頻率調(diào)制得到調(diào)制后泵浦光;根據(jù)具有第二頻率的第二參考信號對探測光進(jìn)行頻率調(diào)制得到調(diào)制后探測光,其中所述第二頻率與...
        • 本發(fā)明實(shí)施例公開的一種調(diào)節(jié)鏡架例如包括:第一調(diào)節(jié)盤;第二調(diào)節(jié)盤,與第一調(diào)節(jié)盤相對設(shè)置;調(diào)節(jié)組件,包括第一調(diào)節(jié)件和第二調(diào)節(jié)件,第一調(diào)節(jié)與第二調(diào)節(jié)件均設(shè)置有固定部和活動(dòng)部,活動(dòng)部可以相對于固定部伸縮,固定部連接第一調(diào)節(jié)盤和第二調(diào)節(jié)盤之一,活...
        • 本發(fā)明涉及半導(dǎo)體關(guān)鍵尺寸量測技術(shù)領(lǐng)域,具體提供一種兼容關(guān)鍵尺寸小角X射線散射量測與X射線反射率量測的裝置,包括:量測點(diǎn)相同的SAXS光源單元和XRR光源單元、SAXS探測單元、XRR探測單元,以及用于承載樣品并驅(qū)動(dòng)樣品轉(zhuǎn)動(dòng)的多自由度樣品...
        • 一種膜厚測量裝置以及檢測設(shè)備,膜厚測量裝置包括:光源模塊,被配置為提供預(yù)設(shè)波長范圍的照明光束;反射組件,被配置為部分切入照明光束,將照明光束的部分反射;傳輸組件,被配置為接收反射組件反射的照明光束,并輸出至待測件;接收待測件反射照明光束...
        • 本申請實(shí)施例公開了一種缺陷驗(yàn)證方法,該方法包括:獲得第一待驗(yàn)證圖像與第二待驗(yàn)證圖像;第一待驗(yàn)證圖像與第二待驗(yàn)證圖像包括缺陷像素點(diǎn);在第一待驗(yàn)證圖像劃分像素區(qū)域,獲得第一區(qū)域,在第二待驗(yàn)證圖像的相同位置劃分相同大小的像素區(qū)域,獲得第二區(qū)域...
        • 本技術(shù)公開光探測裝置及光學(xué)設(shè)備,包括相裝配的第一框架與光收集器、相裝配的第二框架與光探測器以及第一調(diào)控組件,其中,光收集器用于收集來自于待測對象的信號光;光探測器用于接收光收集器傳輸?shù)男盘柟猓坏谝徽{(diào)控組件與第一框架以及第二框架相連接,第...
        • 一種位移執(zhí)行器件的偏角檢測系統(tǒng)、方法以及偏角補(bǔ)償方法,偏角檢測系統(tǒng)包括:參考組件,設(shè)于位移執(zhí)行器件的運(yùn)動(dòng)部上,用于跟隨運(yùn)動(dòng)部從第一位置運(yùn)動(dòng)至第二位置;參考組件具有至少一個(gè)參考面,參考面與位移執(zhí)行器件的理論運(yùn)動(dòng)軸向之間具有預(yù)設(shè)角度;測量裝...
        • 本發(fā)明實(shí)施例公開了一種缺陷檢測模型確定方法及其裝置、一種缺陷檢測方法和存儲介質(zhì)。缺陷檢測模型確定方法包括:獲取多個(gè)缺陷圖像集;響應(yīng)于多個(gè)缺陷圖像集中的目標(biāo)缺陷圖像集的缺陷圖像數(shù)量不等于缺陷圖像數(shù)量閾值,對目標(biāo)缺陷圖像集進(jìn)行缺陷圖像數(shù)據(jù)增...
        • 本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例提供的一種檢測模型訓(xùn)練方法,包括:獲取多個(gè)訓(xùn)練數(shù)據(jù);所述多個(gè)訓(xùn)練數(shù)據(jù)對應(yīng)多種工件類別;對所述多個(gè)訓(xùn)練數(shù)據(jù)進(jìn)行歸集處理,確定與所述多種工件類別一一對應(yīng)的多個(gè)訓(xùn)練數(shù)據(jù)集;基于所述多個(gè)訓(xùn)練數(shù)據(jù)集進(jìn)行模型訓(xùn)練得到檢測模型。本發(fā)明...
        • 一種特征尺寸參數(shù)提取方法、系統(tǒng)、終端設(shè)備以及存儲介質(zhì),方法包括:提供待測特征的多個(gè)特征尺寸及特征尺寸對應(yīng)的仿真光譜;將特征尺寸與仿真光譜作為神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型的數(shù)據(jù)集,對神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型進(jìn)行訓(xùn)練,直至神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型的訓(xùn)練誤差小于預(yù)設(shè)閾值,確定神經(jīng)網(wǎng)...
        • 本發(fā)明實(shí)施例公開了一種缺陷檢測模型確認(rèn)方法及其裝置和系統(tǒng),一種缺陷檢測方法和存儲介質(zhì)。缺陷檢測模型確認(rèn)方法包括:獲取多個(gè)缺陷圖像集;對多個(gè)缺陷圖像集進(jìn)行圖像數(shù)據(jù)標(biāo)注,得到多個(gè)標(biāo)注后缺陷圖像集;響應(yīng)于多個(gè)標(biāo)注后缺陷圖像集的多個(gè)缺陷圖像數(shù)量...
        • 本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例提供的一種檢測模型確定方法,包括:獲取樣本圖像集,所述樣本圖像集包括多個(gè)樣本圖像;利用所述樣本圖像集對檢測模型進(jìn)行迭代處理;其中,所述迭代處理的每次迭代包括:利用所述檢測模型獲取所述多個(gè)樣本圖像一一對應(yīng)的多個(gè)損失值;對所...
        • 本申請公開了一種對準(zhǔn)系統(tǒng)及方法,可應(yīng)用于半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,其中系統(tǒng)包括:設(shè)備前端模塊和制程模塊;設(shè)備前端模塊包括機(jī)械手臂、第一預(yù)對準(zhǔn)裝置以及第二預(yù)對準(zhǔn)裝置;在取片時(shí),機(jī)械手臂用于將晶圓從晶圓盒搬運(yùn)至第一預(yù)對準(zhǔn)裝置,將托盤從托盤盒搬運(yùn)至第二...
        • 一種檢測設(shè)備,包括機(jī)臺、布置于機(jī)臺的檢測區(qū)內(nèi)的檢測裝置和移載裝置以及橫跨機(jī)臺的檢測區(qū)與揀料區(qū)布置的第一輸送裝置、第二輸送裝置和第三輸送裝置;揀料區(qū)內(nèi)定義有第一上料位、第一下料位和第二下料位,檢測區(qū)內(nèi)定義有檢測位、第一移載位和第二移載位;...
        • 本申請?zhí)峁┝艘环N檢測設(shè)備的對準(zhǔn)方法以及檢測設(shè)備,該對準(zhǔn)方法包括以下步驟:使用機(jī)械對準(zhǔn)模塊對待測物進(jìn)行粗對準(zhǔn),使待測物表面的對準(zhǔn)標(biāo)記位于光學(xué)對準(zhǔn)模塊的視場中;在粗對準(zhǔn)之后,使用光學(xué)對準(zhǔn)模塊對待測物進(jìn)行精對準(zhǔn),使待測物處于預(yù)定位置。本申請?jiān)?..
        • 本發(fā)明涉及光源調(diào)節(jié),特別涉及一種調(diào)節(jié)裝置及光學(xué)檢測裝置。一種調(diào)節(jié)裝置,包括:基座;以及平移調(diào)節(jié)組件,平移調(diào)節(jié)組件包括平移底座和第一光學(xué)元件;平移底座被配置為以平移方式在基座上活動(dòng),第一光學(xué)元件設(shè)于平移底座上;第一光學(xué)元件沿平移底座的平移...
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