本申請提供一種承載裝置及半導體處理設備。承載裝置包括承載件、壓緊組件、及驅動件。承載件包括承載面及設置在承載件的氣路，氣路與承載面連通，承載面包括第一區域及環繞第一區域的第二區域，氣路用于抽氣以將工件吸附在第一區域。壓緊組件用于將工件壓...

本實用新型公開一種光源系統及濾光裝置，其中，該濾光裝置包括驅動電機和若干濾光輪，各所述濾光輪均設有沿周向間隔分布的若干濾光片，所述驅動電機與各所述濾光輪均傳動連接，用于驅使各所述濾光輪進行同步轉動。上述濾光裝置僅通過一個驅動電機即可以帶...

一種承載裝置及檢測設備，承載裝置包括基板件、支撐件和承載件；基板件設有用于供承載件運動通過的定位通孔；支撐件與基板件運動連接，用于在向靠近定位通孔的方向運動時，將待載工件支撐在定位通孔的上方；承載件用于經由定位通孔靠近待載工件，實現對待...

本申請提供一種定位方法、檢測系統和存儲介質。定位方法包括：獲取承載在機臺上的工件的待處理圖像，工件具有第一坐標系并包括至少三個工件標記點，機臺具有第二坐標系并包括與工件標記點對應的機臺坐標點；根據待處理圖像中的至少三個工件標記點在第一坐...

本申請公開了一種半導體處理設備、半導體處理設備的使用方法、及非易失性計算機可讀存儲介質。半導體處理設備包括設有開口的處理腔室、位于處理腔室內的激光器、及設于開口處的遮擋件，遮擋件設置在開口處并能夠調節開口的開合度。半導體處理設備的使用方...

一種檢測方法、檢測裝置、檢測設備和非易失性計算機可讀存儲介質。檢測方法應用于檢測設備，所述檢測設備包括承載臺，所述承載臺用于承載待測件，所述承載臺設置有傳感器，所述傳感器圍成承載空間，所述承載空間與所述待測件的形狀和尺寸匹配，所述檢測方...

本申請提供一種檢測系統，用于檢測待測鏡頭的成像質量，所述檢測系統包括：光源，用于發射照明光；針孔裝置，所述針孔裝置包括一本體及開設于所述本體的通孔，所述通孔位于所述照明光的光路，以使所述照明光至少部分穿過所述通孔，形成檢測光，所述針孔裝...

一種檢測方法、檢測裝置、檢測設備和非易失性計算機可讀存儲介質。檢測方法包括基于預設的模板匹配算法，檢測待測件的圖像的缺陷；若存在所述缺陷，則獲取所述待測件的圖像中所述缺陷所在的圖像區域，以作為待測圖像；及基于預設的目標檢測模型，檢測所述...

一種檢測方法、檢測裝置、檢測設備和非易失性計算機可讀存儲介質。檢測方法包括基于預設的匹配算法，檢測待檢件的圖像的特征點；若存在所述特征點，則獲取所述待檢件的圖像中所述特征點所在的圖像區域，以作為待檢圖像；及基于預設的分類模型，檢測所述待...

一種檢測方法、檢測裝置、檢測設備和非易失性計算機可讀存儲介質。檢測方法包括基于預設的匹配算法，檢測待檢件的圖像的第一類型；基于預設的分類模型，檢測所述待檢件的圖像的第二類型；及融合所述第一類型和所述第二類型，以輸出最終類型。首先通過匹配...

一種檢測方法、檢測裝置、檢測設備和非易失性計算機可讀存儲介質。檢測方法包括獲取多個具有特征點的模板圖像；依據特征點的類型對模板圖像進行分類，以確定模板圖像的類型；將分類前的多個所述模板圖像和分類后的多個所述模板圖像作為第一集，輸入到分類...

檢測設備及其檢測方法，所述檢測設備包括：檢測組件，用于對待測物、的套刻標記進行檢測，套刻標記包括第一標記和第二標記；運動臺，用于使檢測組件和待測物相對移動；所述檢測方法包括：檢測組件采集包含第一標記的第一圖像；運動采集裝置在第一曝光時間...

本實用新型公開一種承載裝置及具有該承載裝置的檢測設備，該承載裝置包括承載盤，所述承載盤具有內外嵌套設置的膠膜吸附面和框架承載面，所述膠膜吸附面高于所述框架承載面，且所述膠膜吸附面內側的承載盤具有下凹形成的待測物避讓空間。通過優化改進該承...

本申請提供一種抓取裝置及轉運系統。抓取裝置包括載臺及多個抓取件。載臺用于抓取工件。每個抓取件的一端連接于載臺，另一端凸出于載臺，多個抓取件分別用于抓取不同狀態的工件的電路板，電路板凸出于工件。本申請的抓取裝置及轉運系統中，多個抓取件分別...

本實用新型提供一種載物設備，包括殼體和設置在殼體內的承載裝置，所述承載裝置用于承載待承載對象，其特征在于，所述殼體包括主體支架和多個蓋板，所述主體支架包括至少一底板和多個支柱，所述承載裝置設于所述底板，多個所述蓋板均與所述主體支架可拆卸...

本實用新型公開了一種用于面板的對準裝置，包括：多組對準組件，分別對應所述面板的多個側壁，所述對準組件包括至少一個對準部件，所述對準部件能夠推動所述側壁；吸附組件，包括至少一個吸附基板，所述吸附基板用于吸附固定所述面板；升降組件，包括第一...

本實用新型公開了一種承載裝置及檢測設備，所述承載裝置包括滑臺和吸附支撐組件；所述吸附支撐組件與所述滑臺之間設有旋轉對準組件，所述旋轉對準組件安裝于所述滑臺且連接所述吸附支撐組件；所述滑臺遠離所述吸附支撐組件的一側與X軸運動組件運動連接，...

本申請公開了一種承載裝置，承載裝置包括支撐結構、載物結構和繞線結構，載物結構能夠移動地安裝在支撐結構上；繞線結構安裝在支撐結構上，繞線結構與載物結構間隔，載物結構引出的連接線能夠繞設在繞線結構上，載物結構相對于支撐結構移動時，連接線能夠...

本申請公開了一種承載裝置及半導體處理設備。承載裝置包括本體、凸臺及限位件。本體包括第一面及與第一面相接的側面。凸臺設置在第一面的邊緣，并與本體共同圍成腔體。凸臺包括遠離第一面的吸附面，吸附面設置有吸附單元，吸附單元用于吸附工件的第一區于...

本申請公開了一種翹曲校正裝置、翹曲校正設備、及翹曲校正方法。翹曲校正裝置包括基板及多個按壓組件。基板包括相背的第一面及第二面，基板還包括中心區域及環繞中心區域的邊緣區域。中心區域及邊緣區域均分布有按壓組件，每個按壓組件均設置于第一面并朝...