本申請?zhí)峁┮环N檢測設備的控制方法、檢測系統(tǒng)及非易失性計算機可讀存儲介質控制方法包括：獲取監(jiān)控設備的數(shù)據(jù)信息，監(jiān)控設備用于監(jiān)測檢測設備的機臺以生成數(shù)據(jù)信息；根據(jù)數(shù)據(jù)信息對預設的通訊模型進行編輯，以生成與機臺對應的通訊指令；及根據(jù)通訊指令控...

本發(fā)明公開了一種圖像處理方法、裝置、光學系統(tǒng)和計算機可讀存儲介質。圖像處理方法，包括：獲取旋轉掃描所得到的待測物的內圈部和外圈部的矩形圖參數(shù)；根據(jù)內圈部和外圈部的矩形圖參數(shù)對多個內圈部的矩形圖和多個外圈部的矩形圖進行預處理以形成待測物的...

一種檢測方法、檢測裝置、檢測設備和非易失性計算機可讀存儲介質。檢測方法包括獲取多個具有缺陷的工件的多個訓練圖像；標注訓練圖像中的缺陷；將標注前的多個訓練圖像和標注后的多個訓練圖像作為訓練集，輸入到目標檢測模型進行訓練，以獲取訓練至收斂的...

一種檢測方法、檢測裝置、檢測設備和非易失性計算機可讀存儲介質。檢測方法包括基于預設的模板匹配算法，檢測待測件的圖像的第一缺陷；基于預設的目標檢測模型，檢測所述待測件的圖像的第二缺陷；及融合所述第一缺陷和所述第二缺陷，以輸出最終缺陷。首先...

一種數(shù)據(jù)增強方法、數(shù)據(jù)增強裝置、數(shù)據(jù)增強設備和非易失性計算機可讀存儲介質。數(shù)據(jù)增強方法包括獲取具有缺陷的第一工件圖像；識別并截取所述第一工件圖像中所述缺陷所在的圖像區(qū)域，以作為第一融合圖像；獲取無缺陷的第二工件圖像，以作為第二融合圖像；...

本申請公開了一種校準方法、校準裝置、校準系統(tǒng)及非易失性計算機可讀存儲介質。校準方法包括：獲取承載在運動平臺上的工件的圖像；識別圖像中，工件的多個邊緣點；基于預設的坐標軸和邊緣點的坐標計算工件相對坐標軸的偏移信息；及根據(jù)偏移信息調整運動平...

本申請公開了一種電子設備的更新方法、更新裝置、中轉服務器及非易失性計算機可讀存儲介質。電子設備的更新方法包括：通過中轉服務器接收電子設備的更新請求；根據(jù)更新請求生成升級指令，升級指令包括電子設備需要更新的固件的清單；在電子設備的權限驗證...

本申請公開了一種檢測設備的控制方法，檢測設備包括第一機械手和第二機械手，第一機械手和第二機械手通過同一個運動主體活動地安裝于同一軌道，控制方法包括：在第一機械手空置，且第二機械手未接收到下料請求時，第一機械手運動至上料臺并抓取位于上料臺...

本申請公開了一種檢測方法、檢測設備、檢測裝置、及非易失性計算機可讀存儲介質。檢測方法應用于檢測設備，檢測設備包括承載裝置、光源組件、及圖像采集裝置。檢測方法包括：獲取工件上待檢測的目標區(qū)域及圖像采集裝置檢測工件的目標速率，目標區(qū)域為工件...

本申請的標定方法包括拍攝標定件的第一標定圖像，標定件包括沿第一方向上以第一波形分布的第一特征結構；依據(jù)第一波形，與第一特征結構沿第一方向上的像素值分布信息，獲取第一特征點在第一坐標系下的第一坐標；通過第二傳感器沿第一方向采集第一特征結構...

本發(fā)明公開了一種檢測設備及檢測方法。檢測設備包括第一檢測系統(tǒng)和第二檢測系統(tǒng)，第一檢測系統(tǒng)的照明裝置發(fā)出的第一檢測光在待測物表面形成第一光斑，第一檢測系統(tǒng)的第一探測裝置用于接收第一檢測光經待測物表面形成的第一信號光；第二檢測系統(tǒng)的照明裝置...

本申請公開了一種工件的檢測方法、工件檢測設備、及非易失性計算機可讀存儲介質。工件的檢測方法包括：獲取模板工件中模板單元的多張模板圖，每張模板圖的灰度值不同、獲取待測工件的第一圖像，第一圖像中包括至少一個待檢單元、獲取第一圖像的灰度值、根...

本發(fā)明公開了一種缺陷的檢測方法、裝置和計算機可讀存儲介質。缺陷的檢測方法，包括步驟：1）獲取參考圖像和待測樣品的圖像；2）獲取所述待測樣品的圖像的一個測量單元的第一灰度均值；3）根據(jù)所述第一灰度均值補償所述參考圖像的灰度均值；4）將補償...

本申請?zhí)峁┮环N調節(jié)機構、鏡頭模組及檢測設備。調節(jié)機構用于固定被調節(jié)件，調節(jié)機構包括安裝件、固定件及緩沖件。安裝件設有收容腔，收容腔用于收容被調節(jié)件；固定件能夠活動地安裝于安裝件的側壁；緩沖件至少部分伸入安裝件的側壁，緩沖件的兩端分別與固...

本申請公開了一種半導體檢測方法、半導體檢測系統(tǒng)、及非易失性計算機可讀存儲介質。半導體檢測系統(tǒng)包括檢測儀與承載件，檢測方法包括：校準放置在承載件上的工件的初始位置；對工件的中心位置進行聚焦以獲取參考高度；對工件的至少一個待測位置進行聚焦，...

本實用新型公開了一種光線發(fā)生裝置及檢測系統(tǒng)，該光線發(fā)生裝置包括非平行的第一光線出射面和第二光線出射面，當使用本文的光線發(fā)生裝置對晶圓邊緣區(qū)域的靠近上表面邊緣區(qū)段位置進行檢測時，第一光線出射面可以大致與上表面邊緣區(qū)段平行，因第二光線出射面...

一種調節(jié)機構及探測模組，調節(jié)機構包括：底座；偏擺調節(jié)支座，設置于底座上，且與底座轉動連接，偏擺調節(jié)支座具有第一通槽；偏擺自鎖驅動結構，位于底座上，偏擺自鎖驅動結構用于驅動偏擺調節(jié)支座在底座上繞第一轉動軸心偏轉；俯仰調節(jié)支座，位于偏擺調節(jié)...

本申請公開了一種對準系統(tǒng)，對準系統(tǒng)包括光源、第一成像系統(tǒng)、第二成像系統(tǒng)及處理系統(tǒng)，光源用于產生探測光，探測光經待測物之后形成信號光，經待測物邊緣形成的信號光為第一信號光，經待測物的定位圖案形成的信號光為第二信號光，第一信號光攜帶待測物邊...

本申請的生成方法包括通過第一傳感器拍攝待測件的第一圖像，所述待測件設置在運動平臺上；獲取所述第一圖像中的至少部分區(qū)域為待測區(qū)域；計算所述第一傳感器拍攝所述待測區(qū)域時，所述運動平臺的第一坐標集；依據(jù)所述第一坐標集，及所述第一傳感器與所述第...

本申請公開了一種檢測設備及檢測方法。檢測設備包括轉盤、檢測裝置、上料裝置、至少一個調整裝置、及下料裝置。上料裝置、調整裝置、及下料裝置沿轉盤轉動方向依次設置；檢測裝置用于檢測位于承載件內的工件是否滿足預定條件并輸出檢測結果；上料裝置用于...