本申請公開了一種處理組件。處理組件包括發(fā)光裝置、檢測裝置、吹掃裝置及吸氣裝置。發(fā)光裝置向工件的待處理位置投射光線。吹掃裝置向待處理位置施加吹掃氣流。吸氣裝置包括進氣口，用于使吹掃至待處理位置的氣流排出。本申請還公開了一種檢測設(shè)備。檢測設(shè)...

本申請?zhí)峁┮环N承載裝置及檢測設(shè)備。承載裝置包括承載件及底座。所述承載件設(shè)有承載面，所述承載面設(shè)有吸附孔，并用于承載工件，所述承載面軟質(zhì)可變形；所述底座用于安裝所述承載件，所述底座設(shè)有氣孔，所述氣孔與所述吸附孔連通，并用于將所述工件吸附于...

本發(fā)明公開一種承載裝置及承載系統(tǒng)、工作方法，該承載裝置包括真空吸盤和多個支撐組件；所述真空吸盤包括相對的吸附面和背面，所述吸附面用于吸附待測對象的第一表面；所述支撐組件配置為沿垂直于所述吸附面的方向運動；所述多個支撐組件具有承托面，所述...

本發(fā)明公開一種檢測系統(tǒng)及檢測方法，該檢測系統(tǒng)包括檢測裝置、承載裝置和轉(zhuǎn)運裝置，其中，所述檢測裝置用于檢測待測對象的第一表面或第二表面，所述檢測裝置的光軸與所述待測對象的第一表面或第二表面垂直；所述承載裝置置于檢測腔中，用于承載所述待測對...

一種吸附裝置，包括表面均布有多個等高齊平的支撐凸起的承載件、布置于承載件的表面?zhèn)然蚩煽氐剡\動至承載件的表面?zhèn)鹊恼渭约皠恿Χ笋詈现琳渭尿?qū)動組件；其中，支撐凸起用于待載面板抵靠，整形件用于貼合吸附待載面板，驅(qū)動組件用于驅(qū)使整形件作升...

一種檢測方法及檢測系統(tǒng)、設(shè)備和存儲介質(zhì)，方法包括：獲取待測物的不同邊緣區(qū)域的待處理圖像，邊緣區(qū)域中有待測目標，邊緣區(qū)域包括直線形邊緣區(qū)域和/或曲線形邊緣區(qū)域；在邊緣區(qū)域為曲線形邊緣區(qū)域的情況下，利用曲線形邊緣區(qū)域的待處理圖像提取待測目標...

本申請公開了圖像處理方法及相關(guān)裝置，所述檢測設(shè)備獲取待測件的原始圖像；確定所述原始圖像的每個像素點的灰度值；根據(jù)所述原始圖像的全部像素點的灰度值確定第一閾值與第二閾值，所述第一閾值與所述第二閾值不相等；根據(jù)所述第一閾值與所述第二閾值確定...

本申請公開了清潔方法及相關(guān)裝置，清潔方法應(yīng)用于檢測設(shè)備，檢測設(shè)備包括清潔組件、承載裝置以及框架，清潔組件與框架連接，清潔組件位于承載裝置的承載面一側(cè)，清潔組件的清潔方向指向承載裝置的承載面，清潔方法包括：確定承載裝置的待清潔評價值；當待...

一種濾光輪裝置、光學(xué)檢測系統(tǒng)和濾光輪的工作方法，濾光輪裝置包括第一濾光輪、第二濾光輪、驅(qū)動組件，第一濾光輪的安裝面開設(shè)有多個第一通孔，第二濾光輪的安裝面開設(shè)有多個第二通孔；第一濾光輪被配置為繞第一軸線轉(zhuǎn)動，第二濾光輪被配置為繞第二軸線轉(zhuǎn)...

一種濾光輪裝置、光學(xué)檢測系統(tǒng)和濾光輪裝置的工作方法，濾光輪裝置包括第一濾光輪、第二濾光輪、限位件，第一濾光輪的安裝面開設(shè)有多個第一通孔，第二濾光輪的安裝面開設(shè)有多個第二通孔；第一濾光輪被配置為繞第一軸線轉(zhuǎn)動，第二濾光輪被配置為繞第二軸線...

本申請公開了一種鏡筒組件。鏡筒組件包括第一鏡筒，第一鏡筒為一體結(jié)構(gòu)，第一鏡筒包括多個子鏡筒，每個子鏡筒包括第一端、與第一端相背的第二端、及貫穿第一端與第二端的光通道，光通道用于供光線通過。本申請還公開了一種檢測裝置及檢測設(shè)備。第一鏡筒包...

本申請公開了一種轉(zhuǎn)接座。轉(zhuǎn)接座用于與空氣吸盤可拆裝地連接，轉(zhuǎn)接座包括相背的第一面及第二面，轉(zhuǎn)接座還形成有第一氣孔、多個第二氣孔及通氣道；第一氣孔貫穿第一面，第一氣孔用于與負壓源連接；多個第二氣孔貫穿第二面，第二氣孔用于與空氣吸盤可拆裝地...

本申請公開了一種升降結(jié)構(gòu)、支撐裝置及檢測設(shè)備。升降結(jié)構(gòu)包括基座、升降組件、升降架組件及驅(qū)動組件。升降組件的數(shù)量為多個，多個升降組件均安裝于基座，每個升降組件包括位于基座的轉(zhuǎn)動件及自轉(zhuǎn)動件延伸的升降桿，升降桿與轉(zhuǎn)動件配合。升降架組件安裝于...

本申請?zhí)峁┮环N承載裝置及檢測設(shè)備。承載裝置包括透光的承載件、基座及光源，承載件包括承載面，承載面用于承載工件；基座包括相背的第一側(cè)與第二側(cè)，第一側(cè)安裝有承載件，基座設(shè)有凹槽及收容腔，每個收容腔均貫穿凹槽的底部及第二側(cè)，凹槽用于安裝承載件...

本申請的校準設(shè)備用于校準待校準件，校準設(shè)備包括承載件和多個定位件。待校準件承載在承載件上；定位件可在預(yù)定行程內(nèi)移動，預(yù)定行程包括目標位置，當多個定位件均位于對應(yīng)的目標位置時，多個定位件圍成預(yù)定的定位空間，待校準件位于定位空間并與多個定位...

本申請?zhí)峁┮环N承載裝置及半導(dǎo)體處理設(shè)備。承載裝置包括載臺及按壓組件。載臺包括多個環(huán)形的承載件，多個承載件依次套設(shè)，每個承載件均包括承載面并圍成一收容腔，每個承載件的承載面用于承載不同尺寸的工件，多個承載件的承載面的高度均不同，自載臺的中...

本申請?zhí)峁┮环N承載裝置及檢測設(shè)備。承載裝置包括承載盤，承載盤的邊緣設(shè)有凸臺，凸臺圍成收容腔并用于承載工件的邊緣區(qū)域，凸臺設(shè)有吸附結(jié)構(gòu)，吸附結(jié)構(gòu)用于吸附工件的邊緣于凸臺；承載盤設(shè)有多個凸起，多個凸起位于收容腔內(nèi)，并能夠支撐工件的非邊緣區(qū)域...

本申請涉及一種自動聚焦的光學(xué)干涉測量裝置及聚焦方法、存儲介質(zhì)，其中光學(xué)干涉測量裝置包括干涉光源、光學(xué)傳感器、驅(qū)動機構(gòu)和處理器。由處理器獲取干涉信號的包絡(luò)曲線，根據(jù)包絡(luò)曲線得到光學(xué)傳感器的粗聚焦位置，在粗聚焦位置的預(yù)設(shè)范圍內(nèi)將干涉信號與預(yù)...

本實用新型提供一種檢測設(shè)備，包括：定位模塊，所述定位模塊包括：成像組件，包括第一成像單元，用于探測至少部分所述定位信號光并根據(jù)探測的定位信號光形成第一定位圖像；第二成像單元，用于探測至少部分所述定位信號光并根據(jù)探測的定位信號光形成第二定...

本發(fā)明提供了一種檢測方法、裝置以及存儲介質(zhì)，由于獲取待檢測圖像以及與待檢測圖像相鄰的至少兩個對比圖像；獲取待檢測圖像與對比圖像的差分圖像；根據(jù)差分圖像的灰度直方圖，對差分圖像進行二值化處理，得到差分圖像的二值化圖像；將至少兩個二值化圖像...