本發明提供一種光罩制程偏差的監控方法及監控系統，采用光學鄰近校正模型確定監控圖案；將所述監控圖案排版于光罩版圖上對應晶圓切割道的位置，并根據所述光罩版圖制作光罩；測量所述光罩中的監控圖案的關鍵尺寸，計算所述監控圖案的關鍵尺寸偏差并判斷所...

本申請提供了一種

本申請提供了一種半導體器件中的互連金屬的沉積方法，其中，該方法包括：在待沉積襯底的表面上按照第一預設沉積條件執行互連金屬的第一次沉積操作，以得到在所述待沉積襯底的表面上沉積的第一沉積層，第一預設沉積條件用于限制第一沉積層的互連金屬的晶粒...

本申請公開一種光罩正位識別方法

本公開涉及一種圖案加載效應預測方法

本發明提供一種嵌入式閃存器件及其制作方法，該嵌入式閃存器件包括

本申請提供一種清洗夾具，包括一底座

本實用新型提供了一種離子束萃取機構及離子注入設備，包括萃取本體與基座，所述萃取本體具有頂部開口的入射腔室，所述入射腔室的底壁的一部分為萃取面，所述萃取面相對于所述入射腔室的側壁傾斜設置，且所述萃取面具有一貫穿的萃取孔，以供離子束穿過，所...

本申請提供一種夾持裝置，在光刻機中用于夾持晶圓，夾持裝置包括底座

本申請提供一種光刻機中的光束檢測裝置，包括檢測結構，檢測結構活動連接于光路管路內，光路管路具有相對設置的入口和出口，檢測結構具有通孔

本申請提供了一種電腦的遠程控制方法

本發明提供一種控制常壓爐管工藝中氧化層膜厚穩定性的方法及系統，該方法包括步驟：提供一常壓爐管，其爐內壓力隨大氣壓變化而變化；基于常壓爐管的歷史生產數據獲取通過其形成的氧化層的膜厚與形成氧化層過程中其爐內壓力之間的第一關系系數

本申請實施例涉及一種采用爐管的半導體工藝方法

本申請涉及一種研磨控制方法

本實用新型提供了一種定位安裝裝置及半導體工藝設備，所述定位安裝裝置包括：定位框架，包括至少四個支撐柱，相鄰的所述支撐柱的一端相互連接；十字滑臺結構，可移動地設置于所述定位框架內；滑輪結構，設置于所述定位框架內，且所述滑輪結構設置于所述十...

本申請提供一種盛裝溶液容器，用于盛裝噴向噴嘴槽的光阻稀釋劑，盛裝溶液容器包括底璧以及與底璧連接的側壁，底璧與側壁構成容納腔，用于盛裝光阻稀釋劑，側壁背離容納腔的一面設置有卡合部，卡合部卡合于噴嘴槽的槽璧上，以使盛裝溶液容器卡合于噴嘴槽內...

本申請提供一種光刻機中的機械臂結構，包括第一機械臂、第二機械臂以及扭矩傳感器，第一機械臂的兩端與第二機械臂的兩端連接，第二機械臂背離第一機械臂的一端與扭矩傳感器連接，第二機械臂靠近第一機械臂的一側的上殼體設置有卡孔，扭矩傳感器信號線卡合...

本申請提供一種修復工具，用于修復晶圓打包機中變形的真空吸嘴，修復工具包括支桿、主桿、活動件以及彈性件，支桿具有兩個，主桿具有一個，主桿位于兩個支桿之間，支桿以及主桿均與活動件連接，彈性件設置于活動件內，且位于支桿與主桿之間；支桿包括第一...

本申請公開了一種晶圓上的多層多晶硅的清洗方法及半導體器件，多層多晶硅的清洗方法包括：提供質量濃度為

本申請提供了一種深溝槽隔離方法、裝置、電子設備及存儲介質，涉及半導體技術領域，該方法包括：對待隔離芯片進行刻蝕以及線形氧化層生成處理獲得待填充芯片；將待填充芯片置于具有預設壓力及預設溫度的沉積設備中；按照設定比率以及設定載氣流量為沉積設...