本發明公開了一種可擺動式懸臂機械夾持機構及其工作方法，該夾持機構包括擺動模組和夾持模組；擺動模組包括懸臂和擺臂，懸臂上設有直線驅動件，直線驅動件具有驅動桿；擺臂上設有第一連接部、第二連接部和安裝部，擺臂通過第一連接部與懸臂轉動連接，第二...

本申請公開了一種在線式超聲除塵清洗機，包括機架，設置在所述機架上的輸送軌道，用于沿清洗路徑輸送工件；位于清洗路徑上的干式超聲除塵裝置；驅動所述干式超聲除塵裝置水平運動的直線運動模組；設置在所述輸送軌道內的真空升降吸板結構，用于將工件抬升...

本發明公開了焊料打印設備的氣路結構、焊料打印設備及控制方法，金屬焊料打印設備至少包括料管組件，料管組件的底部設置有噴嘴，包括主氣路，一端與料管組件相連通，另一端外接外界氣源，用于提供推動料管組件中的熔融焊料的擠壓力；分氣路，一端旁接于主...

本技術公開了一種晶圓清洗用料架，包括陽極板、陰極板、支撐板、電極正極以及電極負極，陰極板和陽極板互相平行且水平設置，陰極板和陽極板之間留有用于放置待清洗工件的空間，陰極板和陽極板上均勻分布有穿孔，支撐板數量有兩個且分別位于陰極板和陽極板...

本技術公開了一種等離子清洗用料架及其半導體器件清洗設備，包括陽極板、陰極板以及料架底座，所述陰極板和陽極板豎直設置且互相交錯分布，所述陰極板和陽極板上部均固定至一料架框，陽極板和所述料架框電性連接，陰極板和所述料架框之間設置有絕緣套筒，...

本發明公開了一種高精度柔性夾持伺服翻轉夾爪裝置及其工作方法，該夾爪裝置包括夾持機構和翻轉機構；翻轉機構包括翻轉動力件，翻轉動力件的動力輸出端與夾持機構連接，以通過翻轉動力件帶動夾持機構翻轉；夾持機構包括夾爪模組、張開模組和夾緊模組，夾爪...

本技術公開了一種多頭旋轉貼裝裝置，包括安裝架、貼裝頭組件、貼裝頭工位調節組件和第一豎向調節組件，貼裝頭工位調節組件和第一豎向調節組件均連接在安裝架上，貼裝頭組件包括沿周向設置的多個貼裝頭，貼裝頭組件與貼裝頭工位調節組件的動力輸出端連接，...

本技術涉及加熱臺結構技術領域，尤其涉及一種真空腔體用加熱臺結構。其技術方案包括真空腔體和與真空腔體合模的下腔體組件，所述下腔體組件包括下腔體板和加熱板組件，固定安裝于下腔體板上的真空接頭和至少一組卡套接頭，所述加熱板組件內部設有油路通道...

本技術公開了一種共晶貼片機的預加熱降溫結構，包括預加熱組件，預加熱組件包括預加熱安裝座，預加熱安裝座上設有預加熱棒、第一基板支撐板、第一基板頂部空氣隔絕板和第一豎向移動組件；第一基板支撐板用于放置基板，預加熱棒用于對基板進行預加熱，第一...

本技術公開了一種載具夾爪模組，包括夾爪移動組件、夾爪固定板、氣缸固定板、升降氣缸以及夾爪組件，所述夾爪移動組件與工作平臺滑動連接，所述工作平臺上安裝有直線模組，所述直線模組可帶動夾爪移動組件在工作平臺上移動，升降氣缸一側固定在夾爪移動組...

本技術公開了一種簡單緊湊的多片晶圓上料裝置，包括晶圓模組和頂針模組，晶圓模組包括晶圓臺，晶圓臺上設有晶圓固定裝置，還包括托盤模組，托盤模組包括托盤和旋轉動力件，在托盤上沿周向均布有多個晶圓放置孔，晶圓放置孔處用于放置晶圓，在托盤的中間位...

本申請公開了一種真空共晶焊爐，真空共晶焊爐定義有兩兩互相垂直的X軸、Y軸和Z軸，真空共晶焊爐包括機架模塊、腔體總成模塊、流水線模塊和移料模塊：腔體總成模塊包括上腔體模組和下腔體模組，上腔體模組至少包括上腔體，上腔體相對于機架模塊沿Z軸滑...

本申請公開了一種吸氣劑激活型真空焊爐，包括機架總成和承載于機架總成的腔體總成，腔體總成包括腔體總成、下壓模塊、可動隔板總成和夾具總成；腔體總成內部形成有工藝腔室；下壓模塊設置于腔體總成；可動隔板總成包括第一隔板、第二隔板以及用于驅動第一...

本申請公開了一種真空室測溫裝置，包括真空管路組件、熱電偶密封組件和熱電偶組件；真空管路組件具有軸向延伸的真空通道；熱電偶密封組件，包括連接套筒、彈性塞和壓蓋，連接套筒內部形成有容納腔，容納腔與真空通道相連通，彈性塞設置于連接套筒的容納腔...

本發明公開了一種全自動微波等離子清洗去膠機及其工作方法，去膠機包括上料機構、清洗去膠機構和下料機構，清洗去膠機構包括上腔體模組、下清洗平臺模組、真空泵模組、流水線模組和移栽模組；流水線模組用于在上料機構與清洗去膠機構之間、清洗去膠機構與...

本技術公開了一種真空回流焊爐，包括爐體腔室，其包括腔室上蓋和下腔室，下腔室與所述腔室上蓋鉸接；設置于腔室上蓋中的回流罩，回流罩一側為敞口設置，回流罩敞口背離腔室上蓋內壁；設置于腔室上蓋中的回流盒，回流盒與回流罩形狀匹配，回流盒固定在回流...

本發明提供了一種RPS源微波等離子電離腔結構及等離子清洗機，包括電離室，內部具有中空的電離腔，電離室的頂部設置有第一進氣孔；分散頭，與第一進氣孔相連接，分散頭相對于第一進氣孔的端面部分設置有多個環形引導孔，各個環形引導孔以第一進氣孔的孔...

本發明提供一種微波大氣常壓射流裝置及其控制方法，屬于微波等離子體技術領域。該裝置包括設備外殼、激發腔體、點火組件、微波饋入組件、氣路組件、等離子體射流出口、弧光檢測傳感器及集成電氣模塊。激發腔體包括氣體擴散腔和氣流壓縮腔，實現氣流均勻與...

本技術公開了一種物料的上料輸送裝置，包括機體，機體上設有上下料機構和多工位機構；上下料機構包括托盤和上下料模組，托盤上設有多個物料容納槽，上下料模組包括上下料軸向運動組件、上下料縱向運動組件和物料吸附組件，以通過上下料軸向運動組件和上下...

本技術公開了一種貼片裝置及貼片機，機體上設有貼片頭模組和基板加熱模組；貼片頭模組包括安裝架體、豎向運動組件、豎向預緊力調節組件和貼片頭；豎向運動組件的固定端與安裝架體連接，運動端與豎向預緊力調節組件的固定端連接，豎向預緊力調節組件的運動...