本發明提供了一種大氣壓微波等離子體射流生成控制方法，通過獲取反射功率、管壁溫度、氣體流量、微波功率與頻率等運行參數，利用已訓練的深度神經網絡預測電子密度、活性粒子濃度和能量利用效率，再以最小化狀態誤差與控制代價為目標，采用模型預測控制算...

本技術公開了一種物料的上料調節裝置，包括機體，機體上設有基板運動平臺模組、物料轉移模組和翻轉模組；基板運動平臺模組包括安裝座、基板軸向運動組件、基板第一縱向運動組件、第二縱向運動組件、移動座和放置平臺；基板軸向運動組件用于帶動移動座沿軸...

本技術公開了一種自動開關門真空回流焊爐爐體，包括：設置為空心結構的腔體，腔體一側設置為敞口；位于所述腔體敞口一側的門板，所述門板尺寸與敞口匹配；分別固定于所述腔體兩側面的導向組件，導向組件另一端與所述門板固定連接；以及安裝于腔體底部的驅...

本技術公開了一種高真空共晶回流焊爐，包括爐體、低真空系統和高真空系統，所述爐體與所述高真空系統連通，所述高真空系統包括高真空管路，所述高真空管路連接有高真空插板閥和分子泵，所述分子泵與所述低真空系統連通；所述低真空系統包括低真空管路，所...

本技術公開了一種甲酸供應系統及其真空回流焊爐，包括：甲酸輸送管路，其包括依次通過管路連通的儲酸瓶和甲酸塔，儲酸瓶中存儲的甲酸可通過管路上設置的泵輸送至甲酸塔內；氣體輸送管路，其包括依次連通的氮氣供應組件、調壓閥和第一手動截止閥，氮氣供應...

本技術公開了一種蘸膠裝置，包括蘸膠安裝基座、蘸膠頭組件、蘸膠盤組件和刮膠頭組件；蘸膠頭組件包括蘸膠頭和蘸膠頭運動部件；蘸膠頭運動部件帶動蘸膠頭在蘸膠盤組件和基板之間進行運動；蘸膠盤組件包括膠盤和膠盤轉動部件，膠盤內放置膠，膠盤轉動部件帶...

本技術公開了一種多段式水平傳送機構，包括依次按順序設置的進料傳送臺、接駁傳送臺以及出料傳送臺；進料傳送臺、接駁傳送臺以及出料傳送臺下部均安裝有支撐裝置，支撐裝置用于調節對應的進料傳送臺、接駁傳送臺或是出料傳送臺的寬度方向的位置，支撐裝置...

本技術公開了一種芯片的取料調節裝置，包括安裝基座、取料機構、調節機構和圓晶運動平臺機構，圓晶運動平臺機構上放置芯片，取料機構包括取料旋轉電機、取料手臂和取料頭，取料手臂的一端與取料旋轉電機連接，另一端與取料頭連接，取料頭用于獲取芯片，通...

本技術公開了一種自動開關門真空回流焊爐，包括爐體，所述爐體的一側開口，開口處設有與其適配的門板，還包括供門板自動靠近和遠離開口的動力裝置；動力裝置包括驅動組件和導向組件，導向組件包括兩根分別設置在門板兩側導向軸,導向軸的一端連接在爐體的...

本發明公開了一種具有調壓系統的真空共晶回流焊爐，包括，爐體，具有進氣口以及出氣口；所述進氣口連接有進氣管路，其中進氣管路上設置有進氣冷卻閥以及進氣比例調節閥，形成加壓系統；所述出氣口連接有出氣管路，其中出氣管路上設置有第一擋板閥，并外接...

本發明公開了一種用于光隔離器貼裝定位的視覺識別方法、識別裝置及使用方法，該視覺識別方法包括以下步驟：光源發出的光以設定角度照射在光隔離器上；光隔離器轉動；在光隔離器的正上方對光隔離器進行視覺圖像采集，根據視覺圖像采集結果對光隔離器的方向...

本技術公開了一種可自動調整寬度的流水線機構及其等離子清洗機，包括：底板，所述底板沿著長度方向設置有兩互相平行的導軌，底板通過導軌滑動連接移動板；至少一個固定側組件，固定側組件固定在所述底板上；與固定側組件對應設置的移動側組件，移動側組件...

本技術公開了一種有壓燒結工裝及其燒結機，在保護蓋板內部安裝加熱板組件，加熱板組件上部設置有工裝載具，在保護蓋板內部設置至少一個測溫組件，測溫組件包括內導套、外導套、彈簧以及第一測溫熱電偶，外導套套設于所述內導套外，外導套與內導套間隙配合...

本技術公開了一種過載檢測組件、物料推進裝置及其等離子清洗機，包括導軌、驅動組件以及橫梁，橫梁沿其長度方向設置至少一個推動件，橫梁一端固定滑動座，滑動座與所述導軌滑動連接，橫梁另一端安裝有過載檢測組件，過載檢測組件與驅動組件傳動配合，在驅...

本發明公開了一種射頻等離子清洗機，包括真空腔體，真空腔體的前端設置有腔門，背部連接有真空泵，真空腔體的頂部安裝有射頻等離子體發生器，真空腔體內設置有真空壓力探頭，腔門設置有正對真空腔體內的工藝氣體彌散孔，真空腔體內可拆卸式安裝有多個陣列...

本發明公開了一種高速可靠的隔離器貼片機及其工作方法，該隔離器貼片機包括機架，所述機架上設有：上料模組，用于將隔離器依次輸送到取料工位；管殼輸送模組，用于放置管殼，并將管殼輸送到貼裝工位；點膠模組，用于對貼裝工位的管殼進行點膠處理；貼裝模...

本發明公開了一種在線式射頻等離子清洗機，通過由升降機構帶動上腔體往移動分開上腔體與下腔體，將待清洗工件放置在下腔體的進口輸送裝置上，由推手組件將位于進口輸送裝置上的待清洗工件推送至下腔體內，然后升降結構帶動上腔體向下移動至與下腔體閉合，...

本技術公開了一種物料升降機構，包括升降組件、移動梁、抓取組件以及導向組件，升降組件與所述移動梁傳動連接，移動梁可沿升降組件高度方向移動，移動梁固定連接所述抓取組件，移動梁一端分別與一所述導向組件滑動連接；其中，抓取組件包括兩對相對設置的...

本發明公開了一種防過載誤觸的推桿結構及控制方法，涉及等離子清洗機技術領域，包括至少一個推料組件，推料組件包括，板件，板件上設置有壓力傳感器；推桿，可水平滑動地連接于板件上，推桿的一端的延伸方向與壓力傳感器的感應面相對設置；彈性件，一端設...

本技術公開了一種出料模組，包括：安裝在基臺上的出料傳送帶組件和出料推料組件，所述出料推料組件包括出料電機、出料同步帶、出料同步組件以及出料固定板；其中，所述出料固定板固定安裝在所述出料傳送帶組件上，出料固定板一端安裝有所述出料電機，所述...